[发明专利]一种用于非可耕地设施堵漏限蒸栽培方法有效
申请号: | 201510702496.1 | 申请日: | 2015-10-26 |
公开(公告)号: | CN105284355B | 公开(公告)日: | 2018-06-26 |
发明(设计)人: | 张振贤;高丽红;眭晓蕾;郑纯;李董;梁耿 | 申请(专利权)人: | 中国农业大学 |
主分类号: | A01G22/00 | 分类号: | A01G22/00 |
代理公司: | 北京众合诚成知识产权代理有限公司 11246 | 代理人: | 黄家俊 |
地址: | 100193 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 堵漏 栽培沟 无土栽培基质 栽培 覆盖地膜 节水潜力 设施园艺 土壤蒸发 栽培作物 有机土 栽培槽 沟灌 灌水 基质 水沟 建造 生长 | ||
1.一种用于非可耕地设施堵漏限蒸栽培方法,其特征在于,该方法的具体步骤为:
(1)挖栽培沟:在日光温室内根据栽培畦向挖栽培沟,栽培沟长度方向有1:150-1:250的坡降;
(2)栽培沟铺膜:在栽培沟底部以及两侧铺设厚度为0.1mm的塑料薄膜,并且在距离下水口0.5-1.5m处的栽培沟底部塑料薄膜上打渗水孔;
(3)装填栽培基质:在栽培沟底部塑料薄膜上先铺3-5cm厚的沥水层,然后在沥水层上面填充无土栽培基质,人工配制的富含有机质的土壤,或与栽培作物无相同致病菌的一般园田土壤;
(4)制作灌水沟:栽培沟内采用双垄定植,株间行距为45-55cm,双行之间为灌水沟;所述的灌水沟的深度为8-11cm,适宜的亩单次灌水量为10-15m3;
(5)地面铺地膜:在栽培沟及两个栽培畦间的地面上全部铺设厚度为0.008mm的地膜,限制土壤水分蒸发;在灌水沟的沟底地膜间有搭缝。
2.根据权利要求1所述一种用于非可耕地设施堵漏限蒸栽培方法,其特征在于,所述栽培沟的深度为50cm,宽度为80cm,两个栽培沟的间距为60cm。
3.根据权利要求1所述一种用于非可耕地设施堵漏限蒸栽培方法,其特征在于,所述渗水孔的个数为3-5个,孔径为0.5cm-1.5cm。
4.根据权利要求1所述一种用于非可耕地设施堵漏限蒸栽培方法,其特征在于,所述沥水层的填充物质为石砾、珍珠岩和粗砂中的一种或两种以上的组合。
5.根据权利要求1所述一种用于非可耕地设施堵漏限蒸栽培方法,其特征在于,所述栽培基质的总空隙度在60%以上。
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