[发明专利]一种多层复合类富勒烯薄膜在汽车发动机上产业化的方法在审

专利信息
申请号: 201510705272.6 申请日: 2015-10-27
公开(公告)号: CN105220120A 公开(公告)日: 2016-01-06
发明(设计)人: 高凯雄;张俊彦;张斌;强力;王健 申请(专利权)人: 中国科学院兰州化学物理研究所
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/06
代理公司: 兰州中科华西专利代理有限公司 62002 代理人: 方晓佳
地址: 730000 甘*** 国省代码: 甘肃;62
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摘要:
搜索关键词: 一种 多层 复合 类富勒烯 薄膜 汽车发动机 产业化 方法
【权利要求书】:

1.一种多层复合类富勒烯薄膜在汽车发动机上产业化的方法,其特征在于,将要沉积薄膜的发动机部件依次通过除油、漂洗、除锈、漂洗、脱水的清洗装置后,装入真空腔中;将真空腔真空度依次通过机械泵、罗茨泵、分子泵、低温水汽泵抽至2.0×10-3Pa;在镀膜前利用高功率脉冲离子源进行高强度的气体离子轰击清洗,去除待镀工件表面的氧化/钝化层、污物和毛刺;接下来采用阴极电弧技术进行高能金属离子轰击来镀粘结层,然后利用高功率脉冲离子源离化反应气体,提高镀膜区域的等离子体密度,并配合非平衡磁控溅射技术依次在工件上沉积高性能金属氮化物、金属碳氮化物、类富勒烯薄膜的沉积。

2.如权利要求1所述的多层复合类富勒烯薄膜在汽车发动机上产业化的方法,其特征在于,所述可沉积薄膜的发动机部件为缸体、曲轴、活塞销或控制活塞,材质为热处理回火温度大于150℃、表面光洁度Ra<0.6μm、表面无锈点、凹坑的不锈钢、轴承钢、模具钢、碳素钢或铸铁。

3.如权利要求1或2所述的多层复合类富勒烯薄膜在汽车发动机上产业化的方法,其特征在于,所述清洗装置除油采用的中性或弱酸性水基除油剂,漂洗采用去离子水溢流方式,除锈采用弱酸性除锈剂,脱水采用无水乙醇,整个清洗过程均在超声波震荡下进行。

4.如权利要求1所述的多层复合类富勒烯薄膜在汽车发动机上产业化的方法,其特征在于,抽真空先用机械泵将真空腔抽至800Pa,然后打开罗茨泵将真空腔抽至10Pa,最后开分子泵和低温水汽泵将真空抽至2.0×10-3Pa。

5.如权利要求1所述的多层复合类富勒烯薄膜在汽车发动机上产业化的方法,其特征在于,利用高功率脉冲离子源进行高强度气体离子轰击时要通入纯度大于99.99%的Ar气,轰击过程中保持腔内气压在0.35-0.45Pa,离子源电流强度在8-12A;直流脉冲偏压为600-800V,占空比40-60%,频率40-80KHz,轰击时间为15min。

6.如权利要求1所述的多层复合类富勒烯薄膜在汽车发动机上产业化的方法,其特征在于,采用阴极电弧轰击高能金属离子时要通入纯度大于99.99%的Ar气,轰击过程中保持腔内气压在0.35-0.40Pa,轰击的高能金属离子源为纯度大于99.99%Ti靶,靶基距为8-12cm,阴极电弧Ti电流为120-150A;直流脉冲偏压为400-600V,占空比40-60%,频率40-80KHz,轰击时间为20min。

7.如权利要求1所述的多层复合类富勒烯薄膜在汽车发动机上产业化的方法,其特征在于沉积高性能金属氮化物时,通入纯度大于99.99%的Ar、N2气,N2与Ar的百分比浓度为40-60%,反应气体压强为0.45-0.55Pa;高功率脉冲离子源电流强度8-12A;非平衡磁控溅射Ti和Cr靶电流为10-12A,占空比为40-60%,频率为40-80KHz;阴极电弧Ti电流为100-120A;直流脉冲偏压为200-400V,占空比40-60%,频率40-80KHz,沉积时间35min。

8.如权利要求1所述的多层复合类富勒烯薄膜在汽车发动机上产业化的方法,其特征在于沉积高性能金属碳氮化物时,通入纯度大于99.99%的Ar、N2、CH4或C2H2气体,N2与Ar的百分比浓度为40-60%,反应气体压强为0.45-0.55Pa;CH4或C2H2气体通入量与Ar百分比浓度CH4/Ar或C2H2/Ar按5%/2min依次增加到100%;高功率脉冲离子源电流强度8-12A;非平衡磁控溅射Ti和Cr靶电流为10-12A,占空比为40-60%,频率为40-80KHz;阴极电弧Ti电流为100-120A;直流脉冲偏压为100-200V,占空比40-60%,频率40-80KHz,沉积时间40min。

9.如权利要求1所述的多层复合类富勒烯薄膜在汽车发动机上产业化的方法,其特征在于沉积高性能类富勒烯纳米结构碳薄膜时,通入纯度大于99.99%的Ar、N2、CH4或C2H2气体,N2与Ar的百分比浓度为(N2/Ar)40-60%,CH4或C2H2气体通入量与Ar百分比浓度CH4/Ar或C2H2/Ar为100%;高功率脉冲离子源电流强度8-12A;非平衡磁控溅射Ti和Cr靶电流为10-12A,占空比为40-60%,频率为40-80KHz;阴极电弧Ti电流为100-120A;直流脉冲偏压为100-200V,占空比40-60%,频率40-80KHz,沉积时间30min。

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