[发明专利]采用闪耀光栅的激光干涉光刻系统

权利要求书

1.一种采用闪耀光栅的激光干涉光刻系统，其特征在于，该激光干涉光刻系统包括光源组件、扩束准直组件、多光束分光及合束组件、基片台(18)，所述光源组件包括相干光源(1)、第一透镜(2)、第二透镜(3)、闪耀光栅(5)，所述相干光源(1)发出的激光束依次经第一透镜(2)、第二透镜(3)后，再经反射镜(4)折转光路后照射在闪耀光栅(5)上，经闪耀光栅(5)衍射后波长等于一级闪耀波长的光束经过小孔光阑(6)出射，再经所述扩束准直组件、多光束分光及合束组件后分成多个相干光束并同时汇聚照射在位于基片台(18)上的基片(17)表面。

2.根据权利要求1所述的采用闪耀光栅的激光干涉光刻系统，其特征在于：所述经所述小孔光阑(6)出射的光束经反射镜(7)折转光路后，再进入到所述扩束准直组件。

3.根据权利要求1或2所述的采用闪耀光栅的激光干涉光刻系统，其特征在于：所述扩束准直组件包括显微物镜(8)、针孔光阑(9)、扩束镜(10)，进入扩束准直组件的光束经显微物镜(8)、针孔光阑(9)、扩束镜(10)将光束扩束并准直成平行光，然后进入到所述多光束分光及合束组件。

4.根据权利要求1所述的采用闪耀光栅的激光干涉光刻系统，其特征在于：所述多光束分光及合束组件包括第一分光镜(11)、第一反射镜(13)，从扩束准直组件出射的平行光经第一分光镜(11)分成的两束光，其中一束光直接照射在固定于基片台(18)上的基片(17)表面，另一束光经第一反射镜(13)反射后照射在固定于基片台(18)上的基片(17)表面。

5.根据权利要求4所述的采用闪耀光栅的激光干涉光刻系统，其特征在于：所述经第一分光镜(11)后直接照射在固定于基片台(18)上的基片(17)表面的光束，和经第一反射镜(13)反射后照射在固定于基片台(18)上的基片(17)表面的光束，入射角相同。

6.根据权利要求1所述的采用闪耀光栅的激光干涉光刻系统，其特征在于：所述多光束分光及合束组件包括第一分光镜(11)、第二分光镜(12)、第一反射镜(13)、第二反射镜(15)、第三反射镜(14)、第四反射镜(16)，平行光经过第一分光镜(11)分成两束光，其中一束光经第一反射镜(13)反射后作为光束Ⅰ照射在固定于基片台(18)上的基片(17)表面，另一束光经过第二分光镜(12)再次被分成两束光，其中一束光经第二反射镜(15)折转光路再经第三反射镜(14)反射后作为光束Ⅱ照射在固定于基片台(18)上的基片(17)的表面上，另一束光经第四反射镜(16)反射后作为光束Ⅲ照射在固定于基片台(18)上的基片(17)表面。

7.根据权利要求6所述的采用闪耀光栅的激光干涉光刻系统，其特征在于：所述经第一反射镜(13)反射后照射在固定于基片台(18)上的基片(17)表面的光束Ⅰ、经第三反射镜(14)反射后照射在固定于基片台(18)上的基片(17)表面的光束Ⅱ、经第四反射镜(16)反射后照射在固定于基片台(18)上的基片(17)表面的光束Ⅲ的入射角相同，并且每两束光之间的夹角也相同。

8.根据权利要求1所述的采用闪耀光栅的激光干涉光刻系统，其特征在于：所述闪耀光栅(5)为反射式闪耀光栅，其宏观平面垂直于入射光束的入射方向；具体为：由所述相干光源(1)发出的波长为λ、带宽为Δλ的激光束，以正入射的方式沿着闪耀光栅(5)的宏观平面的法线方向，照射在反射式闪耀光栅(5)上。

9.根据权利要求1所述的采用闪耀光栅的激光干涉光刻系统，其特征在于：所述小孔光阑(6)的开孔大小和距离位置由开孔对闪耀光栅(5)中心的张角确定，具体为：根据张角与目标带宽Δλ₁、光栅常数d、一级衍射角θ的关系式确定。