[发明专利]一种溶剂型UV光学扩散膜及其制备方法

说明书

本发明涉及光学薄膜技术领域，具体涉及一种溶剂型UV光学扩散膜及其制备方法，该溶剂型UV光学扩散膜包括基材层和贴合于基材层一侧的扩散层，扩散层包括扩散粒子，扩散粒子包括大颗粒扩散粒子和小颗粒扩散粒子，大颗粒扩散粒子的粒径为4‑10μm，小颗粒扩散粒子的粒径为1‑4μm。本发明通过采用扩散层，扩散层包括扩散粒子，扩散粒子包括大颗粒扩散粒子和小颗粒扩散粒子，大颗粒扩散粒子和小颗粒扩散粒子均呈窄粒径、单形态分布，对光线既具有良好的扩散效果，又不至于使光的散射十分散乱，从而能符合光扩散效率的要求并具有良好的辉度，使光源得以有效利用；同时，扩散粒子交联度高，不易彼此聚集或粘附，不会影响扩散光线的均匀度，并且具有很好的耐刮和耐磨性。

技术领域

本发明涉及光学薄膜技术领域，具体涉及一种溶剂型UV光学扩散膜及其制备方法。

背景技术

随着平面显示器尤其是液晶显示器工业的飞速发展，其零部件之一的光学扩散膜的制作工艺也在日益更新。在现代涂布工艺中，通常将光学扩散粒子均匀的涂布在膜面上的方法有辊涂、喷涂、浸涂。传统辊涂中的凹版涂布常因为版轮损伤造成扩散膜层受损、生产修复周期长、涂布宽幅难以控制等问题。

且现有光学扩散膜的扩散粒子随机混杂在一起，对扩散膜光线整体散射均匀度造成了影响，长时间也会对人体视觉造成影响。

发明内容

为了克服现有技术中存在的缺点和不足，本发明的目的在于提供一种溶剂型UV光学扩散膜，该溶剂型UV光学扩散膜表面平滑、有光泽，不会影响扩散光线的均匀度，并且具有很好的耐刮和耐磨性，还具有较好的透光性和光扩散性。

本发明的目的在于提供一种溶剂型UV光学扩散膜的制备方法，该制备方法工艺简单，操作控制方便，质量稳定，生产效率高，生产成本低，适合大规模工业化生产。

本发明的目的通过下述技术方案实现：一种溶剂型UV光学扩散膜，包括基材层和贴合于基材层一侧的扩散层，扩散层包括扩散粒子，扩散粒子包括大颗粒扩散粒子和小颗粒扩散粒子，大颗粒扩散粒子的粒径为4-10μm，小颗粒扩散粒子的粒径为1-4μm。大颗粒扩散粒子和小颗粒扩散粒子可以单层的均匀的分布在基材表面；或是大颗粒扩散粒子覆盖在小扩散粒子上面或下面。

本发明通过采用扩散层，扩散层包括扩散粒子，扩散粒子包括大颗粒扩散粒子和小颗粒扩散粒子，大颗粒扩散粒子和小颗粒扩散粒子均呈窄粒径、单形态分布，对光线既具有良好的扩散效果，又不至于使光的散射十分散乱，从而能符合光扩散效率的要求并具有良好的辉度，使光源得以有效利用；同时，扩散粒子交联度高，不易彼此聚集或粘附，不会影响扩散光线的均匀度，并且具有很好的耐刮和耐磨性。

优选的，所述基材层为PET薄膜、PEN薄膜、PC薄膜、PP薄膜或PVC薄膜。本发明通过采用透光率上述薄膜作为基材层，使得光学扩散膜具有较好的透光性和光扩散性。优选的，所述基材层为PET薄膜或PEN薄膜。更为优选的，所述基材层为透光率大于95%、雾度低于3%的PET薄膜。

所述扩散粒子为二氧化硅粒子、碳酸钙粒子、二氧化钛粒子、聚甲基丙烯酸甲酯粒子、聚苯乙烯粒子、聚碳酸酯粒子和有机硅氧烷粒子中的至少一种。本发明通过采用上述扩散粒子，符合光扩散效率的要求并具有良好的辉度，使光源得以有效利用；不会影响扩散光线的均匀度，并且具有很好的耐刮和耐磨性。

所述扩散粒子的涂布密度为10²-10⁷个/mm²。本发明通过将扩散粒子的涂布密度控制在10²-10⁷个/mm²，不会影响扩散光线的均匀度，并且具有很好的耐刮和耐磨性。优选的，所述扩散粒子的涂布密度为10⁵个/mm²。

所述基材的厚度为25-200μm。本发明通过将基材的厚度控制在25-200μm，使得光学扩散膜具有较好的透光性和光扩散性。优选的，所述基材的厚度为100μm。