[发明专利]均匀化氮化硼涂层的制备方法在审
申请号: | 201510711019.1 | 申请日: | 2015-10-28 |
公开(公告)号: | CN105296960A | 公开(公告)日: | 2016-02-03 |
发明(设计)人: | 李爱军;李琳琳;彭雨晴;白瑞成;吴彪;贾林涛;汤哲鹏 | 申请(专利权)人: | 上海大学 |
主分类号: | C23C16/34 | 分类号: | C23C16/34 |
代理公司: | 上海上大专利事务所(普通合伙) 31205 | 代理人: | 顾勇华 |
地址: | 200444*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 均匀 氮化 涂层 制备 方法 | ||
1.一种均匀化氮化硼涂层的制备方法,其特征在于该方法的具体步骤为:
a.将待涂样品放入沉积模具中沉积区内;通入反应气体三氯化硼、氨气;三氯化硼和氨气分别由两个进气口通入,在进入模具之前不发生接触;气体在等温混合区混合均匀;混合均匀后,气体进入沉积区,在沉积温度为300~1800℃,系统压力为1~300mbar下,发生沉积,沉积时间为0.5h~20h,最后在待涂样品表面得到均匀的氮化硼涂层;所述的三氯化硼和氨气的气体流量比为[NH3]/[BCl3]=1:1~30;
b.沉积反应结束后,对所得氮化硼涂层样品进行高温热处理,热处理温度为1200~2000℃,时间为0.5h~5h,得到六方氮化硼涂层。
2.根据权利要求1所述的均匀化氮化硼涂层的制备方法,其特征在于所述的反应气体中还有载气和稀释气体;所述的载气为氮气或氩气中的至少一种,该载气与三氯化硼同一进气口进入混合区,气体流量比为[载气]:[BCl3]=1:1~120;所述的稀释气体为氢气,气体流量比为[载气]:[BCl3]=1:1~100。
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C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的