[发明专利]均匀化氮化硼涂层的制备方法在审

专利信息
申请号: 201510711019.1 申请日: 2015-10-28
公开(公告)号: CN105296960A 公开(公告)日: 2016-02-03
发明(设计)人: 李爱军;李琳琳;彭雨晴;白瑞成;吴彪;贾林涛;汤哲鹏 申请(专利权)人: 上海大学
主分类号: C23C16/34 分类号: C23C16/34
代理公司: 上海上大专利事务所(普通合伙) 31205 代理人: 顾勇华
地址: 200444*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 均匀 氮化 涂层 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种均匀化氮化硼涂层的制备方法,其特征在于该方法的具体步骤为:

a.将待涂样品放入沉积模具中沉积区内;通入反应气体三氯化硼、氨气;三氯化硼和氨气分别由两个进气口通入,在进入模具之前不发生接触;气体在等温混合区混合均匀;混合均匀后,气体进入沉积区,在沉积温度为300~1800℃,系统压力为1~300mbar下,发生沉积,沉积时间为0.5h~20h,最后在待涂样品表面得到均匀的氮化硼涂层;所述的三氯化硼和氨气的气体流量比为[NH3]/[BCl3]=1:1~30;

b.沉积反应结束后,对所得氮化硼涂层样品进行高温热处理,热处理温度为1200~2000℃,时间为0.5h~5h,得到六方氮化硼涂层。

2.根据权利要求1所述的均匀化氮化硼涂层的制备方法,其特征在于所述的反应气体中还有载气和稀释气体;所述的载气为氮气或氩气中的至少一种,该载气与三氯化硼同一进气口进入混合区,气体流量比为[载气]:[BCl3]=1:1~120;所述的稀释气体为氢气,气体流量比为[载气]:[BCl3]=1:1~100。

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