[发明专利]一种气相原子沉积钛白粉包膜的方法有效

专利信息
申请号: 201510711832.9 申请日: 2015-10-28
公开(公告)号: CN105668622B 公开(公告)日: 2018-01-30
发明(设计)人: 梁斌;郭婧;袁绍军 申请(专利权)人: 四川大学
主分类号: C09C1/36 分类号: C09C1/36
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 610027*** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 原子 沉积 钛白粉 包膜 方法
【权利要求书】:

1.一种气相原子沉积钛白粉包膜的方法,其特征在于,采用干燥工业钛白粉粉体,在常温真空度0.01-0.5MPa下通入SiCl4蒸汽,以SiCl4蒸汽进行表面水解反应,在钛白粉表面形成一层原子分散的氯化硅膜层,常温常压下在空气自然条件下发生水解/氧化反应,在钛白粉表面生成致密、单原子层的二氧化硅膜层,可以有效改善钛白粉的耐候性、分散性和光学性能。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,工业钛白粉粉体是硫酸法或氯化法生产的钛白粉初品,晶型为金红石型或锐钛型,工业钛白粉未经任何表面处理或经过包膜处理。

3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,干燥工业钛白粉粉体在与SiCl4水解反应前不进行任何处理或先进行羟基化处理。

4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,将干燥钛白粉粉体进行水蒸汽处理,在钛白粉颗粒表面形成表面羟基,该反应在常温、真空下进行,或在100-150˚C、0.1-5 MPa的水热条件下完成。

5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,将羟基化后的钛白粉粉料经真空干燥除去游离水分和空气以后,在真空度为0.01-0.5 MPa的真空条件下通入SiCl4蒸汽。

6.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,SiCl4蒸汽与钛白粉颗粒表面羟基发生定量反应,生成Ti-O-SiCl3表面基团,反应时间为5-60 min,该反应在常温下进行,反应生成的表面含硅基团具有致密、表面全覆盖的特征。

7.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,在空气自然条件下发生氧化反应,将表面Ti-O-SiCl3基团转化为氧化硅膜层。

8.根据权利要求1的方法,其特征在于,表面硅原子层单层分散并全覆盖于TiO2表面,具有很好的分散性。

9.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,根据钛白粉性能需要,重复进行气相原子沉积包膜,获得均匀的多层硅氧化物覆盖膜。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于四川大学,未经四川大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510711832.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top