[发明专利]一种采用等离子体法制备纳米金属硅的方法

权利要求书

1.一种采用等离子体法制备纳米金属硅的方法，其特征在于，包括以下步骤：

A.制备氟化硅气体：将石英砂与氢氟酸反应生成氟化硅气体；

B.纯化氟化硅气体：将步骤A的所述氟化硅气体经过纯化除杂处理后，得到纯化的氟化硅气体；

C.制备纳米金属硅：将步骤B的所述纯化的氟化硅气体与氢气完全混合后通入到等离子体反应器中，并在所述等离子体反应器产生的等离子体的作用下与所述氢气反应而生成纳米金属硅和氟化氢气体，分离后得到纳米金属硅。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，还包括步骤D：将步骤C中生成的所述氟化氢气体、未反应完全的氟化硅气体和未反应完全的氢气通入分离器中进行分离纯化，分别得到回收氟化氢气体、回收氟化硅气体和回收氢气；所述回收氟化氢气体溶于纯化水中制备成氢氟酸而返回步骤A；所述回收氟化硅气体和所述氢气分别送至氟化硅气体贮存器和氢气贮存器。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述氟化硅气体贮存器和所述氢气贮存器内的氟化氢气体和氢气返回步骤C进行再利用。

4.根据权利要求1-3任一项所述的方法，其特征在于，步骤B中的所述纯化的氟化硅气体与氢气按体积比1:1~4完全混合。

5.根据权利4所述的方法，其特征在于，步骤B中的所述纯化的氟化硅气体的纯度为质量含量大于或等于98.5%；步骤C中的所述氢气的纯度为质量含量大于或等于99.0%的高纯氢气。

6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，步骤A中的所述石英砂为杂质含量小于或等于5%的高纯石英砂，所述氢氟酸的质量含量为10~50%。

7.根据权利要求1-3任一项所述的方法，其特征在于，步骤C中生成的所述纳米金属硅的粒径小于或等于50nm。