[发明专利]电子照相感光构件,处理盒和电子照相设备,以及氯镓酞菁晶体和其制造方法无效

专利信息
申请号: 201510713890.5 申请日: 2015-10-28
公开(公告)号: CN105573073A 公开(公告)日: 2016-05-11
发明(设计)人: 西田孟;田中正人;川原正隆 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: G03G5/06 分类号: G03G5/06;C07D487/22
代理公司: 北京魏启学律师事务所 11398 代理人: 魏启学
地址: 日本东京都大*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 电子 照相 感光 构件 处理 设备 以及 氯镓酞菁 晶体 制造 方法
【说明书】:

技术领域

本发明涉及一种电子照相感光构件、使用该电子照相感光构件的处理盒 和电子照相设备、和氯镓酞菁晶体和该氯镓酞菁晶体的制造方法。

背景技术

具有作为光导电体的优异功能的酞菁颜料用作用于电子照相感光构件、 太阳能电池、传感器、和开关元件等的材料。酞菁颜料中,氯镓酞菁晶体例 如用作电子照相感光构件的电荷产生物质。已经存在其中依照用途对氯镓酞 菁晶体进行各种处理的研究(日本专利特开No.5-194523和日本专利特开No. 2005-226013)。

日本专利特开No.5-194523公开了一种技术,其涉及其中将氯镓酞菁晶 体由芳香族醇处理的制造方法。日本专利特开No.2005-226013公开了一种技 术,其涉及具有特定的吸收光谱的氯镓酞菁颜料。

发明内容

根据本发明的一个方面的电子照相感光构件依序包括支承体和感光层。 所述感光层包含由式(1)表示的氯镓酞菁晶体,其中包含选自N,N-二甲基甲酰 胺和二甲亚砜的至少一种有机化合物。基于所述由式(1)表示的氯镓酞菁晶体 的含量,包含于所述由式(1)表示的氯镓酞菁晶体中的所述有机化合物的含量 是0.10质量%以上且0.80质量%以下,

在式(1)中,X1至X4各自独立地表示氢原子或氯原子。

本发明的进一步特征将参考附图从示例性实施方案的以下说明而变得 明显。

附图说明

图1表明包括包含电子照相感光构件的处理盒的电子照相设备的示例性 结构的一个实例。

图2A和2B表明电子照相感光构件的层结构的实例。

图3表明实施例1的酸溶步骤中获得的羟基镓酞菁晶体的X射线衍射图 案。

图4表明实施例1的盐酸处理步骤中获得的氯镓酞菁晶体的X射线衍射图 案。

图5表明实施例1的湿式研磨步骤中获得的氯镓酞菁晶体的X射线衍射图 案。

图6表明实施例3的湿式研磨步骤中获得的氯镓酞菁晶体的质谱分析的 结果。

图7表明用于实施例的评价用图像。

图8表明用于形成半色调图像的类似桂马跳跃图案的图像。

具体实施方式

作为本发明人进行的研究的结果,其中氯镓酞菁晶体用作电荷产生物质 的公开于日本专利特开No.5-194523和日本专利特开No.2005-226013中的已 知电子照相感光构件展示出高的感光度,但产生的电荷有时残留在感光层 中,其导致了问题:在输出图像中发生重影。术语“重影”是指如下现象, 其中在电子照相感光构件的先前旋转时的由光照射的部分的图像浓度在输 出图像中增加或降低。

因此,本发明提供了一种氯镓酞菁晶体,其有助于抑制重影的发生;和 该氯镓酞菁晶体的制造方法;电子照相感光构件,其中将重影的发生通过使 用该氯镓酞菁晶体来充分地抑制;和使用该电子照相感光构件的处理盒和电 子照相设备。

根据本发明的实施方案的氯镓酞菁晶体是由式(1)表示的化合物,其中包 含选自N,N-二甲基甲酰胺和二甲亚砜的至少一种有机化合物。另外,基于所 述由式(1)表示的氯镓酞菁晶体的含量,包含于所述由式(1)表示的氯镓酞菁 晶体中的所述有机化合物的含量是0.10质量%以上且0.80质量%以下。本发明 人已经发现:氯镓酞菁颜料可以有助于抑制重影的发生。

在式(1)中,X1至X4各自独立地表示氢原子或氯原子。

也已经发现的是,重影的发生可以通过将特定的氯镓酞菁晶体添加至电 子照相感光构件的感光层(电荷产生层)来充分地抑制。本发明人推测:这是 因为当氯镓酞菁晶体具有由式(1)表示的结构并且特定的有机化合物以特定 的量(0.10质量%以上且0.80质量%以下)包含于晶体中时,协同地促进作为重 影的原因的在由光照射之后残留在感光层中的载体(carrier)(残余载体)的移 动。

由式(1)表示并且包含有机化合物的氯镓酞菁晶体

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