[发明专利]夹具组件

权利要求书

1.一种用于在等离子体加工室中将基底的外周部分夹紧到支撑件上的夹具组件，所述等离子体加工室为RF偏压功率在所述基底的等离子体加工期间被施加到所述支撑件上的类型的等离子体加工室，所述夹具组件包括：

外部夹具构件；以及

内部夹具构件，所述内部夹具构件被所述外部夹具构件所容纳，所述内部夹具构件限定了将所述基底暴露于等离子体加工的孔；

其中，所述外部夹具构件具有在内边缘中终止的内部部分，其中，所述内部部分与所述内部夹具构件间隔开一间距；

其中，所述内部夹具构件包括用于夹紧所述基底的外周部分的夹紧表面，以及其中，所述内部夹具构件包括凸缘，所述凸缘包括所述夹紧表面和内表面，所述内表面从所述夹紧表面向内地延伸并且所述内表面相对于所述夹紧表面凸起，使得在使用中，所述内表面不会夹紧所述基底的外周部分；以及

其中，所述内部夹具构件具有与所述外部夹具构件间隔开的外部部分，以及其中，所述外部夹具构件包括第一上表面和第二上表面，所述第二上表面从所述第一上表面向内地布置，其中，所述内部夹具构件的外部部分与所述第二上表面接触并且与所述第一上表面间隔开。

2.根据权利要求1所述的夹具组件，其中，所述外部夹具构件的内部部分与所述内部夹具构件间隔一小于250微米的间隙。

3.根据权利要求2所述的夹具组件，其中，所述间隙小于100微米。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的夹具组件，其中，所述外部夹具构件包括用于夹紧所述基底的外周部分的夹紧表面。

5.根据权利要求1至3中任一项所述的夹具组件，其中，所述内表面相对于所述夹紧表面凸起小于100微米。

6.根据权利要求1至3中任一项所述的夹具组件，其中，所述内表面从下部夹紧表面向内地延伸小于0.75mm。

7.根据权利要求1至3中任一项所述的夹具组件，其中，所述内部夹具构件具有内边缘，所述内边缘以不超过1mm的方式从所述外部夹具构件的内边缘向内地布置。

8.根据权利要求1至3中任一项所述的夹具组件，其中，所述内部夹具构件的外部部分与所述外部夹具构件间隔一小于0.75mm的间隙。

9.根据权利要求1至3中任一项所述的夹具组件，其中，所述内部夹具构件和所述外部夹具构件为环形的。

10.根据权利要求1至3中任一项所述的夹具组件，其中，所述内部夹具构件和所述外部夹具构件由介电材料形成。

11.根据权利要求10所述的夹具组件，其中，所述介电材料为氧化铝。

12.根据权利要求3所述的夹具组件，其中，所述间隙小于80微米。

13.根据权利要求6所述的夹具组件，其中，所述内表面从下部夹紧表面向内地延伸小于0.5mm。

14.根据权利要求8所述的夹具组件，其中，所述内部夹具构件的外部部分与所述外部夹具构件间隔一小于0.5mm的间隙。

15.一种内部夹具构件，所述内部夹具构件使用在根据权利要求1所述的夹具组件中。

16.一种外部夹具构件，所述外部夹具构件使用在根据权利要求1所述的夹具组件中。

17.一种成套部件，用于根据权利要求1所述的夹具组件，所述成套部件包括内部夹具构件和外部夹具构件。

18.一种等离子体加工设备，包括根据权利要求1所述的夹具组件。