[发明专利]基板传送装置及基板曝边方法在审
申请号: | 201510718566.2 | 申请日: | 2015-10-29 |
公开(公告)号: | CN105416973A | 公开(公告)日: | 2016-03-23 |
发明(设计)人: | 孙鲁男 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电技术有限公司 |
主分类号: | B65G13/00 | 分类号: | B65G13/00;G02F1/13 |
代理公司: | 深圳市德力知识产权代理事务所 44265 | 代理人: | 林才桂 |
地址: | 518132 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 传送 装置 基板曝边 方法 | ||
1.一种基板传送装置,其特征在于,包括传送平台(1)、相对设于传送平台(1)两侧上方的第一、第二曝边模组(21、22)、及沿传送平台(1)的传送方向间隔设于传送平台(1)下方的第一、第二定位柱(31、32);
所述传送平台(1)用于传送基板(4);所述基板(4)具有第一、第二、第三、第四边缘(41、42、43、44),所述第一边缘(41)与第四边缘(44)相对且与传送平台(1)的传送方向垂直,所述第二边缘(42)与第三边缘(43)相对且与传送平台(1)的传送方向一致;所述第一、第二、第三、第四边缘(41、42、43、44)上具有待曝光的残留光阻;
所述第一定位柱(31)位于第一、第二曝边模组(21、22)之间;所述第一、第二定位柱(31、32)能够相对于传送平台(1)上升与下降;所述第一、第二定位柱(31、32)之间的距离与基板(4)在传送方向上的尺寸相适应;
当基板(4)停靠于第一定位柱(31)处时,基板(4)的第一边缘(41)位于第一、第二曝边模组(21、22)的下方;当传送平台(1)带动基板(4)经过第一定位柱(31)向第二定位柱(32)移动时,基板(4)的第二、第三边缘(42、43)分别经过第一、第二曝边模组(21、22)的下方;当基板(4)停靠于第二定位柱(32)处时,基板(4)的第四边缘(44)位于第一、第二曝边模组(21、22)的下方;从而实现在基板(4)的传送过程中,通过第一、第二曝边模组(21、22)对基板(4)的第一、第二、第三、第四边缘(41、42、43、44)上的残留光阻进行曝光。
2.如权利要求1所述的基板传送装置,其特征在于,所述第一、第二曝边模组(21、22)的光源均为水银灯。
3.如权利要求1所述的基板传送装置,其特征在于,所述传送平台(1)包括相互间隔且平行的数个转轴(11)、及分别设于所述数个转轴(11)上的多个滚轮(12)。
4.如权利要求3所述的基板传送装置,其特征在于,所述第一、第二定位柱(31、32)分别位于相邻的两个转轴(11)之间。
5.如权利要求1所述的基板传送装置,其特征在于,所述第一、第二定位柱(31、32)各连接一气缸,通过所述气缸控制所述第一、第二定位柱(31、32)上升与下降。
6.一种基板曝边方法,其特征在于,包括如下步骤:
步骤1、提供一基板传送装置及基板(4);
所述基板传送装置包括传送平台(1)、相对设于传送平台(1)两侧上方的第一、第二曝边模组(21、22)、及沿传送平台(1)的传送方向间隔设于传送平台(1)下方的第一、第二定位柱(31、32);
所述第一定位柱(31)位于第一、第二曝边模组(21、22)之间;所述第一、第二定位柱(31、32)能够相对于传送平台(1)上升与下降;所述第一、第二定位柱(31、32)之间的距离与基板(4)在传送方向上的尺寸相适应;
所述基板(4)具有第一、第二、第三、第四边缘(41、42、43、44),所述第一边缘(41)与第四边缘(44)相对且与传送平台(1)的传送方向垂直,所述第二边缘(42)与第三边缘(43)相对且与传送平台(1)的传送方向一致;所述第一、第二、第三、第四边缘(41、42、43、44)上具有待曝光的残留光阻;
步骤2、将所述基板(4)放置于所述传送平台(1)上进行传送,并控制第一定位柱(31)上升;
步骤3、所述基板(4)被第一定位柱(31)截住,停靠于第一定位柱(31)处,控制第一曝边模组(21)或第二曝边模组(22)对基板(4)的第一边缘(41)进行曝光;
步骤4、所述基板(4)的第一边缘(41)曝光完毕后,控制第一定位柱(31)下降,传送平台(1)继续传送基板(4),在传送过程中分别通过第一、第二曝边模组(21、22)对基板(4)的第二、第三边缘(42、43)进行曝光,并控制第二定位柱(32)上升;
步骤5、所述基板(4)的第二、第三边缘(42、43)曝光完毕,基板(4)被第二定位柱(32)截住,停靠于第二定位柱(32)处,控制第一曝边模组(21)或第二曝边模组(22)对基板(4)的第四边缘(44)进行曝光;
步骤6、所述基板(4)的第四边缘(44)曝光完毕,控制第二定位柱(32)下降,通过传送平台(1)将曝边后的基板(4)传送至下一制程。
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