[发明专利]一种注塑加工用抗氧化线性低密度聚乙烯在审

专利信息
申请号: 201510722855.X 申请日: 2015-10-29
公开(公告)号: CN105218936A 公开(公告)日: 2016-01-06
发明(设计)人: 黄江 申请(专利权)人: 苏州庄吉模塑科技有限公司
主分类号: C08L23/08 分类号: C08L23/08;C08L97/02;C08K13/02;C08K5/372;C08K3/04;C08K3/22;C08K5/12
代理公司: 苏州广正知识产权代理有限公司 32234 代理人: 徐萍
地址: 215100 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 注塑 工用 氧化 线性 密度 聚乙烯
【说明书】:

技术领域

发明涉及塑料制品领域,具体涉及一种注塑加工用抗氧化线性低密度聚乙烯。

背景技术

线性低密度聚乙烯(LLDPE)为无毒、无味、无臭的乳白色颗粒,密度为0.918~0.935g/cm3。它与LDPE相比,具有较高的软化温度和熔融温度,有强度大、韧性好、刚性大、耐热、耐寒性好等优点,还具有良好的耐环境应力开裂性,耐冲击强度、耐撕裂强度等性能,并可耐酸、碱、有机溶剂等而广泛用于工业、农业、医药、卫生和日常生活用品等领域。

LLDPE已渗透到聚乙烯的大多数传统市场,包括薄膜模塑、管材和电线电缆。现有的普通线性低密度聚乙烯已经很难满足市场需求,急需要研发新的多功能线性低密度聚乙烯。

发明内容

本发明的目的在于提供一种具有抗氧化、稳定性高、抗磨性强、成本低的特点的注塑加工用抗氧化线性低密度聚乙烯。

本发明的技术方案是,一种注塑加工用抗氧化线性低密度聚乙烯,所述注塑加工用抗氧化线性低密度聚乙烯由线性低密度聚乙烯塑料、抗氧化剂、光稳定剂、阻燃剂、增韧剂以及填料组成,所述抗氧化剂为硫代二丙酸二月桂酯,所述光稳定剂为碳黑,所述阻燃剂为三氧化二锑,所述增韧剂为邻苯二甲酸二仲辛酯,所述填料为粉末状软木,所述注塑加工用抗氧化线性低密度聚乙烯各成分所占份数分别为所述线性低密度聚乙烯塑料占76-83份,所述硫代二丙酸二月桂酯占5-7份,所述碳黑占2-4份,所述三氧化二锑占4-6份,所述邻苯二甲酸二仲辛酯占4-5份,所述粉末状软木占1-2份。

在本发明一个较佳实施例中,所述注塑加工用抗氧化线性低密度聚乙烯各成分所占份数具体为所述线性低密度聚乙烯塑料占83份,所述硫代二丙酸二月桂酯占5份,所述碳黑占2份,所述三氧化二锑占5份,所述邻苯二甲酸二仲辛酯占4份,所述粉末状软木占1份。

在本发明一个较佳实施例中,所述注塑加工用抗氧化线性低密度聚乙烯各成分所占份数具体为所述线性低密度聚乙烯塑料占78份,所述硫代二丙酸二月桂酯占7份,所述碳黑占3份,所述三氧化二锑占5份,所述邻苯二甲酸二仲辛酯占5份,所述粉末状软木占2份。

本发明所述为一种注塑加工用抗氧化线性低密度聚乙烯,本发明由线性低密度聚乙烯塑料、抗氧化剂、光稳定剂、阻燃剂、增韧剂以及填料组成,具有抗氧化、稳定性高、抗磨性强、成本低的特点。

具体实施方式

下面对本发明的较佳实施例进行详细阐述,以使本发明的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解,从而对本发明的保护范围做出更为清楚明确的界定。

本发明所述为一种注塑加工用抗氧化线性低密度聚乙烯,所述注塑加工用抗氧化线性低密度聚乙烯由线性低密度聚乙烯塑料、抗氧化剂、光稳定剂、阻燃剂、增韧剂以及填料组成,所述抗氧化剂为硫代二丙酸二月桂酯,所述光稳定剂为碳黑,所述阻燃剂为三氧化二锑,所述增韧剂为邻苯二甲酸二仲辛酯,所述填料为粉末状软木,所述注塑加工用抗氧化线性低密度聚乙烯各成分所占份数分别为所述线性低密度聚乙烯塑料占76-83份,所述硫代二丙酸二月桂酯占5-7份,所述碳黑占2-4份,所述三氧化二锑占4-6份,所述邻苯二甲酸二仲辛酯占4-5份,所述粉末状软木占1-2份。

进一步地,所述注塑加工用抗氧化线性低密度聚乙烯各成分所占份数具体为所述线性低密度聚乙烯塑料占83份,所述硫代二丙酸二月桂酯占5份,所述碳黑占2份,所述三氧化二锑占5份,所述邻苯二甲酸二仲辛酯占4份,所述粉末状软木占1份。

进一步地,所述注塑加工用抗氧化线性低密度聚乙烯各成分所占份数具体为所述线性低密度聚乙烯塑料占78份,所述硫代二丙酸二月桂酯占7份,所述碳黑占3份,所述三氧化二锑占5份,所述邻苯二甲酸二仲辛酯占5份,所述粉末状软木占2份。

本发明所述为一种注塑加工用抗氧化线性低密度聚乙烯,本发明由线性低密度聚乙烯塑料、抗氧化剂、光稳定剂、阻燃剂、增韧剂以及填料组成,具有抗氧化、稳定性高、抗磨性强、成本低的特点。

以上所述仅为本发明的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本领域的技术人员在本发明所揭露的技术范围内,可不经过创造性劳动想到的变化或替换,都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此,本发明的保护范围应该以权利要求书所限定的保护范围为准。

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