[发明专利]一种真空镀膜机内腔清洁剂及其制备方法

说明书

技术领域

本发明涉及光学元件真空镀膜领域，尤其是一种真空镀膜机内腔清洁剂及其制备方法。

背景技术

在光学元件真空镀膜过程中，由镀膜源发出的镀膜材料蒸汽被沉积到被镀光学元件的同时，也会部分溅射并沉积到镀膜机内腔及夹具表面，并随镀膜次数及时间的增加，越累越厚。而这些沉积物在内腔及夹具表面的附着并不稳固，在光学元件镀膜过程中极易脱落到被镀光学元件上，造成被镀光学元件的镀膜缺陷。按一定的生产周期清洁并除去镀膜机内腔及夹具表面沉积物成为光学元件真空镀膜工作的重要组成部分。

光学元件镀膜多采用二氧化硅、二氧化钛、二氧化锆等材料，不溶于酸性或碱性水溶液清除困难，必须采用喷砂、砂布打磨等机械方法才能清洁干净，不但效率低而且对镀膜机内腔及夹具损伤较大。

在清洁干净的真空镀膜机内腔及夹具表面先镀制一层可与水溶性酸反应的金属膜、氧化物膜等隔离膜，然后再进行正常生产，当镀膜机内腔及夹具表面沉积物厚至需清除时，因隔离膜可溶于酸性溶液，此时采用盐酸、草酸等无机酸或有机酸的稀溶液清洗，隔离膜先溶解，沉积物附着力大幅下降，清洁难度大幅下降。但如果直接采用稀酸溶液清除镀膜机内腔及夹具表面沉积物时，存在反应不易控制、清洗效率低等问题。

发明内容

本发明的目的在于，解决现有光学元件真空镀膜机内腔沉积物直接采用稀酸溶液清除镀膜机内腔及夹具表面沉积物时，存在反应不易控制、清洗效率低等问题，提供一种真空镀膜机内腔及夹具酸性水溶清洁剂。

本发明公开了一种真空镀膜机内腔清洁剂，其特征在于这种清洁剂包含酸、络合剂、表面活性剂、水，上述各组分的重量份比如下：

酸10～50份

络合剂10～30份

表面活性剂1～15份

水50～500份。

所述酸为水溶性无机酸或有机酸的一种或几种的混合物；络合剂为氨基羧酸盐、羟基羧酸盐中的一种或几种的混合物。引入表面活性剂可降低沉积物表面张力，提高清洗效率，表面活性剂可选用阳离子表面活性剂、非离子表面活剂的一种或几种的混合物。

本发明真空镀膜机内腔清洁剂制备方法如下：

(1)按配比将酸、络合剂、表面活性剂加入水中并溶解均匀；

(2)过滤分装、备用。

具体实施方式

下面结合具体实施事例，进一步阐述本发明。

实施例1

配方（重量份数比）：

草酸10份30%盐酸10份

葡萄糖酸钠15份TX-10非离子表面活性剂8份

水200份

制备时按配比将草酸、30%盐酸、葡萄糖酸钠加入水中溶解混合均匀，再加入TX-10非离子表面活性剂混合均匀，过滤分装、备用。

将此清洁剂清洗连续工作一周、隔离膜为50nm厚铝隔离膜的光学元件真空镀膜机内腔及夹具沉积物，浸泡45分钟可轻松除去沉积物。

实施例2

配方（重量份数比）：

30%盐酸20份葡萄糖酸钠15份

TX-10非离子表面活性剂8份1631阳离子表面活性剂8份

水200份

制备时按配比将草酸、30%盐酸、葡萄糖酸钠加入水中溶解混合均匀，再加入TX-10非离子表面活性剂、1631阳离子表面活性剂混合均匀，过滤分装、备用。

将此清洁剂清洗连续工作一周、隔离膜为50nm厚铝隔离膜的光学元件真空镀膜机内腔及夹具，浸泡40分钟可轻松除去沉积物。

实施例3

配方（重量份数比）：

草酸30份酒石酸钾钠12份

1831阳离子表面活性剂8份水300份

制备时按配比将草酸、酒石酸钾钠加入水中溶解混合均匀，再加入1831阳离子表面活性剂混合均匀，过滤分装、备用。

将此清洁剂清洗连续工作、隔离膜为50nm厚铝隔离膜的光学元件真空镀膜机内腔及夹具沉积物，浸泡50分钟可轻松除去沉积物。