[发明专利]一种磁性溅射靶材

权利要求书

1.一种磁性靶材，其特征在于：所述磁性靶材能够与非磁性靶材共用磁控溅射系统，所述共用的磁控溅射系统包括靶座，所述靶座包括磁铁；

所述非磁性靶材包括溅射靶、以及用以支撑溅射靶的背板；溅射靶为扁圆柱形，包括呈圆形平面的溅射面及与溅射面相对的溅射靶背面；背板包括支撑溅射靶的主体部分和主要起固定作用的外沿部分，背板通过焊接面与溅射靶粘贴成一体，与焊接面相对的背板内壁形成冷却面，冷却面为圆形平面；

所述磁性靶材由所述非磁性靶材进行如下形状变化形成：

1)减薄溅射靶；以及

2)将溅射靶的溅射面及其背面由平面改成球面，且溅射面与溅射靶的背面完全平行，同时，背板主体部分的焊接面由非磁性靶材的平面改为内球面，且与溅射靶的背面完全贴合。

2.根据权利要求1所述的一种磁性靶材，其特征在于：所述非磁性靶材的总高度为46.10～48.60m，其溅射靶的厚度为2.9～3.1mm，背板外沿部分高度为3.92～24.72mm，冷却面到背板外沿部分的底部的垂直距离为22.03～22.43mm。

3.根据权利要求2所述的一种磁性靶材，其特征在于：所述形状变化1）中减薄溅射靶的减薄尺寸为0.4～0.6mm；2）中形成球面后的溅射面的内径为1026～1411mm。

4.根据权利要求2所述的一种磁性靶材，其特征在于：所述形状变化还包括3）从背板主体部分的冷却面方向减薄背板；以及4）将背板外沿部分减薄。

5.根据权利要求4所述的一种磁性靶材，其特征在于：所述形状变化1）中减薄溅射靶的减薄尺寸为0.4～0.6mm；2）中形成球面后的溅射面的内径为2210～2336mm；3）中减薄背板的减薄厚度为10.75～10.79mm；4）中背板外沿部分减薄5.90～6.02mm。

6.根据权利要求3或5所述的一种磁性靶材，其特征在于：使用与所述非磁性靶材共用的磁控溅射系统进行溅射，所述磁性靶材溅射在基材上的厚度均匀性小于2%。

7.根据权利要求6所述的一种磁性靶材，其特征在于：所述非磁性靶材的溅射靶为铝靶；所述磁性靶材的溅射靶为NiPt合金靶或Ni金属靶。