[发明专利]一种可控阵列纳米线太阳能电池及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201510726104.5 申请日: 2015-10-30
公开(公告)号: CN105304737A 公开(公告)日: 2016-02-03
发明(设计)人: 王新强;王平;荣新;盛博文;唐宁;郑显通;马定宇;荀坤;沈波 申请(专利权)人: 北京大学
主分类号: H01L31/0352 分类号: H01L31/0352;H01L31/18
代理公司: 北京万象新悦知识产权代理事务所(普通合伙) 11360 代理人: 王岩
地址: 100871*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 可控 阵列 纳米 太阳能电池 及其 制备 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及太阳能电池技术,尤其涉及一种可控阵列纳米线太阳能电池及其制备方法。

背景技术

半导体纳米线结构晶体质量高、光学和电学性质良好,使其在纳米器件,比如光电转换器件、高效率发光器件、场效应器件、传感器件、单电子存储器件和单光子器件等,领域有很大的应用价值。近年来,能源问题成为影响世界各国可持续发展的关键性问题,发展以太阳能电池为代表的可再生能源技术显得日益重要,电池光电转换效率的进一步提高始终是人们追求的目标之一。可控阵列纳米线具有光子晶体效应和小尺寸聚光效应,是太阳能电池光电转换效率得以提高的有效途径。

根据所用材料不同,太阳能电池可分为:硅太阳能电池、多元化合物薄膜太阳能电池、聚合物多层太阳能电池、有机太阳能电池、塑料太阳能电池、染料敏化太阳能电池、纳米晶太阳能电池等。纳米晶太阳能电池具有成本低、转换效率稳定、寿命长等优点,具有很大的应用市场,但是,纳米晶体排列随机、可控性差,降低了太阳能电池的性能。然而,原生长的纳米线结构,表面形貌良好、晶体质量高,并且阵列纳米线具有光子晶体效应和小尺寸聚光效应可进一步增强对太阳光的吸收,达到提高太阳能电池开路电压、短路电流和填充因子的目的,因此,阵列纳米线太阳能电池迫在眉睫。

目前制备阵列纳米线太阳能电池的方法主要包括,自组织生长纳米线结构和利用自上而下技术制备纳米线结构。但是,前者可控性太差,后者会引入其他缺陷,从而导致可控阵列纳米线太阳能电池难以实现。

发明内容

针对以上现有技术存在的问题,本发明提出了一种可控阵列纳米线太阳能电池及其制备方法,能够制备出可控阵列纳米线太阳能电池,通过对纳米线的周期、直径的调控增强阵列纳米线太阳能电池的光吸收效率,从而制备出具有较大开路电压、短路电流和填充因子的高转换效率太阳能电池。

本发明的一个目的在于提供一种可控阵列纳米线太阳能电池。

本发明的可控阵列纳米线太阳能电池包括:衬底、N型掺杂层、N型纳米线、多量子阱、P型掺杂层、绝缘材料、P型电极和N型电极;其中,在衬底上生长N型掺杂层;在N型掺杂层的一部分上形成周期性排布的N型纳米线,构成阵列纳米线,与衬底的表面垂直;在N型纳米线外生长多量子阱包裹N型纳米线,构成核-壳结构;在核-壳结构外生长P型掺杂层,包裹核-壳结构;在生长了P型掺杂层的核-壳结构之间填充绝缘材料,并且绝缘材料不覆生长了P型掺杂层的盖核-壳结构的顶端;在包裹核-壳结构的P型掺杂层的顶端形成P型电极;在N型掺杂层的一部分上形成N型电极;N型纳米线的材料采用II-VI族或III-V族的材料;N型纳米线的材料、掺杂的浓度和掺杂原子均与N型掺杂层一致。

N型纳米线采用III-V族的材料,掺杂为Si;N型纳米线采用II-VI族的材料,掺杂为Al。

多量子阱为II-VI族三元合金A(II)xB(II)1-xC(VI),或III-V族三元合金A(III)xB(III)1-xC(V),x为II族或III族元素A的组分,1-x为II族或III族元素B的组分,这里的组分是指II族的元素与VI族的元素或者III族的元素与V族的元素的原子数目比,其中势垒层为B(II)C(VI)或B(III)C(V),与N型纳米线的材料相同。

阵列纳米线的图形的排布可以是等间距排布的二维点阵,也可以是矩形排布的二维点阵。

本发明的另一个目的在于提供一种可控阵列纳米线太阳能电池的制备方法。

本发明的可控阵列纳米线太阳能电池的制备方法,用于制备II-VI族或III-V族的阵列纳米线太阳能电池,包括以下步骤:

1)选取半导体材料中生长速率最快的晶面作为衬底;

2)在衬底上预生长N型掺杂层;

3)根据阵列纳米线的形状,设计图形化衬底的图形,在N型掺杂层上制备图形化衬底;

4)对图形化衬底进行预处理,使图形化衬底的表面洁净;

5)根据图形化衬底,选择N型纳米线的生长条件,在洁净的图形化衬底上生长周期性的排布的N型纳米线,形成阵列纳米线;

6)在N型纳米线上生长多量子阱,包裹N型纳米线,形成核-壳结构;

7)在N型纳米线和多量子阱构成的核-壳结构上生长P型掺杂层,包裹核-壳结构;

8)利用透明的绝缘材料填充生长了P型掺杂层的核-壳结构之间的空隙,并使生长了P型掺杂层的盖核-壳结构的顶端不被绝缘材料覆盖;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京大学,未经北京大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510726104.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top