[发明专利]精密反馈杆局部离子渗氮通用型保护装置有效
| 申请号： | 201510728221.5 | 申请日： | 2015-10-30 |
| 公开（公告）号： | CN106637061B | 公开（公告）日： | 2018-11-30 |
| 发明（设计）人： | 李亮;杨增辉;徐广平;白雪玉;熊浩 | 申请（专利权）人： | 北京实验工厂;中国运载火箭技术研究院 |
| 主分类号： | C23C8/36 | 分类号： | C23C8/36;C23C8/38 |
| 代理公司： | 核工业专利中心 11007 | 代理人： | 高尚梅 |
| 地址： | 100076 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 局部离子 固定架 渗氮 保护装置 反馈杆 同心的 调节架 通用型 精密 装卸方便 定位孔 套筒 生产 | ||
【权利要求书】：
1.一种精密反馈杆局部离子渗氮通用型保护装置，其特征在于：该装置包括固定架(1)、固定于固定架下端的调节架(3)、位于固定架(1)、调节架(3)外侧的套筒(2)；所述的固定架(1)包括上下同心的圆盘，上下同心的圆盘有若干同心的定位孔。
2.根据权利要求1所述的一种精密反馈杆局部离子渗氮通用型保护装置，其特征在于：固定架(1)、调节架(3)和套筒(2)材料是常见0Cr17Ni4Cu4Nb沉淀硬化不锈钢。
3.根据权利要求2所述的一种精密反馈杆局部离子渗氮通用型保护装置，其特征在于：定位孔直径比反馈杆(4)球头直径大0.1mm。
4.根据权利要求3所述的一种精密反馈杆局部离子渗氮通用型保护装置，其特征在于：定位孔通过圆盘圆心为圆等间距分布。
5.根据权利要求4所述的一种精密反馈杆局部离子渗氮通用型保护装置，其特征在于：调节架(3)通过螺纹固定于固定架(1)中心。
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