[发明专利]用于板状工件的翘曲校正设备和翘曲校正方法有效

专利信息
申请号: 201510728252.0 申请日: 2015-10-30
公开(公告)号: CN105562468B 公开(公告)日: 2017-10-24
发明(设计)人: 上竹宏佳;林幸弘 申请(专利权)人: 日本发条株式会社
主分类号: B21D1/00 分类号: B21D1/00
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司31100 代理人: 朱立鸣
地址: 日本神*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 用于 工件 校正 设备 方法
【权利要求书】:

1.一种翘曲校正设备(80),所述翘曲校正设备校正板状工件的翘曲,所述板状工件包括第一表面(61a)和第二表面(61b),所述翘曲校正设备(80)的特征在于包括:

弹性垫(82),所述弹性垫包括平坦上表面(82a);以及

第一片材供应单元(90),所述第一片材供应单元被配置成在所述弹性垫(82)的所述上表面(82a)上供应第一清洁片材(83);

工件保持机构(100),所述工件保持机构被配置成在所述第一清洁片材(83)上供应所述板状工件;

第二片材供应单元(95),所述第二片材供应单元被配置成在所述第一清洁片材(83)上方供应第二清洁片材(84);

第一升降机单元(98),所述第一升降机单元被配置成相对于所述第一清洁片材(83)上下移动所述第二清洁片材(84);

压力辊(85),所述压力辊可移动并且安置于所述第二清洁片材(84)上方;

第二升降机单元(110),所述第二升降机单元被配置成使所述压力辊(85)朝向所述弹性垫(82)压制;以及

辊移动机构(111),辊移动机构被配置成在所述压力辊(85)下降的状态下沿着所述弹性垫(82)的所述上表面(82a)移动所述压力辊(85)。

2.根据权利要求1所述的翘曲校正设备(80),其特征在于:

所述弹性垫(82)由具有弹性的树脂泡沫形成;以及

所述压力辊(85)由比所述弹性垫(82)更硬的弹性材料制成。

3.根据权利要求1所述的翘曲校正设备(80),其特征在于:

所述第一片材供应单元(90)包括:第一供应筒管(91),所述第一供应筒管被配置成在所述弹性垫(82)上递送所述第一清洁片材(83)的未用的部分;以及,第一卷取筒管(92),所述第一卷取筒管被配置成卷取在所述弹性垫(82)上的所述第一清洁片材(83)的用过的部分;以及

所述第二片材供应单元(95)包括:第二供应筒管(96),所述第二供应筒管被配置成在所述第一清洁片材(83)上递送所述第二清洁片材(84)的未用的部分;以及,第二卷取筒管(97),所述第二卷取筒管被配置成卷取所述第二清洁片材(84)的用过的部分。

4.根据权利要求2所述的翘曲校正设备(80),其特征在于:

所述第一片材供应单元(90)包括:第一供应筒管(91),所述第一供应筒管被配置成在所述弹性垫(82)上递送所述第一清洁片材(83)的未用的部分;以及,第一卷取筒管(92),所述第一卷取筒管被配置成卷取在所述弹性垫(82)上的所述第一清洁片材(83)的用过的部分;以及

所述第二片材供应单元(95)包括:第二供应筒管(96),所述第二供应筒管被配置成在所述第一清洁片材(83)上递送所述第二清洁片材(84)的未用的部分;以及,第二卷取筒管(97),所述第二卷取筒管被配置成卷取所述第二清洁片材(84)的用过的部分。

5.根据权利要求1所述的翘曲校正设备(80),其特征在于,还包括:离子发生器(86),所述离子发生器用于防止静电积聚在所述第一清洁片材(83)和所述第二清洁片材(84)上。

6.根据权利要求2所述的翘曲校正设备(80),其特征在于,还包括:离子发生器(86),所述离子发生器用于防止静电积聚在所述第一清洁片材(83)和所述第二清洁片材(84)上。

7.根据权利要求3所述的翘曲校正设备(80),其特征在于,还包括:离子发生器(86),所述离子发生器用于防止静电积聚在所述第一清洁片材(83)和所述第二清洁片材(84)上。

8.根据权利要求4所述的翘曲校正设备(80),其特征在于,还包括:离子发生器(86),所述离子发生器用于防止静电积聚在所述第一清洁片材(83)和所述第二清洁片材(84)上。

9.根据权利要求1所述的翘曲校正设备(80),其特征在于:所述板状工件由框架单元(61)形成,所述框架单元(61)包括框架部分(62)和形成于所述框架部分(62)内的多个挠曲元件(40′),并且所述工件保持机构(100)将所述框架单元(61)放置于所述第一清洁片材(83)上,使得在所述挠曲元件(40′)中每一个中的纵向方向与所述弹性垫(82)的所述上表面(82a)中的纵向方向一致。

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