[发明专利]一种氧化石墨烯/Pebax中空纤维膜及其制备方法在审
申请号: | 201510729065.4 | 申请日: | 2015-10-30 |
公开(公告)号: | CN105396432A | 公开(公告)日: | 2016-03-16 |
发明(设计)人: | 张亚涛;刘金盾;张浩勤;董冠英;申亦佳 | 申请(专利权)人: | 郑州大学 |
主分类号: | B01D53/22 | 分类号: | B01D53/22;B01D69/08;B01D69/12;B01D71/02;B01D71/56;B01D71/68;B01D67/00 |
代理公司: | 郑州先风专利代理有限公司 41127 | 代理人: | 黄伟 |
地址: | 450000 河南省郑*** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 氧化 石墨 pebax 中空 纤维 及其 制备 方法 | ||
技术领域
本发明属于膜制备技术领域,主要涉及一种氧化石墨烯/Pebax中空纤维膜及其制备方法。
背景技术
随着全球工业化程度的进一步提高,在21世纪能源需求将进一步加大。有报道称目前有超过80%的能源消耗来自化石能源,然而化石燃料的燃烧不可避免的会带来一些全球性的难题,其中最为人关注的即为CO2气体排放问题。
当前控制和减少CO2排放的技术有三种:一是采取化石能源的替代技术;二是提高能效实现削减CO2排放;三是CO2的捕集与封存技术。从短期来看,CO2捕集与封存是实现经济开发与环境保护双赢最有效的办法。
膜分离技术作为一种新型分离技术,具有设备体积小、固定投资少、环境友好和操作简单等优点,在CO2捕集领域应用潜力巨大。氧化石墨烯具有高纵横比、易于功能化、好的机械、热稳定性等特性,因此目前广泛的将其作为纳米填充物用于膜制备研究。近年来,通过对氧化石墨烯(GO)的进一步研究及应用,它已在气体分离膜领域显示了广阔的应用前景。例如,Science(2013,342:91-95)利用两种不同的涂敷方法直接将GO溶液涂敷在PES(聚醚砜)支撑膜上用于CO2/N2分离研究。JournalofMaterialChemistryA(2015,3:6629-6641)也公开了一种先在GO片层上修饰一层多巴胺(DA),然后利用半胱氨酸(Cys)进一步修饰,最后将制得的材料与磺化聚醚醚酮(SPEEK)共混制膜,结果表明:相比于无填充的磺化聚醚醚酮膜,CO2的渗透通量及CO2/N2被进一步提高,超越了Robeson上限(2008)。
此外,Pebax(嵌段聚醚酰胺树脂)由于自身高含量的亲水性基团在气体分离膜领域也备受关注,而且Pebax与GO的结合研究已经取得较大突破。ACSAppliedMaterials&Interfaces(2015,7:5528-5537)记载了一种在GO片层上依次修饰PEI(聚乙烯亚胺)、PEG(聚乙烯醇),最后制得Pebax-PEI-PEG-GO多选择性渗透混合基质膜,同时增强了溶解选择性、扩散选择性和反应选择性。Angew.Chem.(2015,127:588-592)利用GO片层与Pebax链间的氢键作用结合,结果显示CO2渗透通量高达100Barrer,CO2/N2分离因子为91,取得了较好的分离效果。
综上所述,就GO在气体分离领域研究、应用而言,目前尚处于实验室探索阶段,主要集中在平板膜的范畴,但是平板膜面临着气体通量低、重复性差等难题,不利用实际工业放大。GO在气体分离领域应用于中空纤维膜的研究尚无报道。
发明内容
本发明的目的是提供一种氧化石墨烯/Pebax中空纤维膜及其制备方法,所述中空纤维膜用于二氧化碳分离时,在保证不降低CO2/N2混合气分离因子的前提下,能进一步提高气体的渗透通量。
本发明采用的技术方案如下:
一种氧化石墨烯/Pebax中空纤维膜,通过下法制得:先将底膜进行预处理至其底膜微孔中充满水,然后依次在底膜上涂覆过渡层、分离层,即得所述氧化石墨烯/Pebax中空纤维膜,所述底膜为中空纤维膜。
所述的底膜进行预处理是将底膜浸泡在去离子水中12-24h。
其中,在底膜上涂覆过渡层时采用的铸膜液为聚三甲基硅-1-丙炔(PTMSP)溶于正己烷或聚二甲基硅氧烷(PDMS)溶于正庚烷的浓度为1-3wt%的铸膜液A。
在过渡层上涂覆分离层时,采用的铸膜液B为氧化石墨烯和嵌段聚醚酰胺树脂溶于乙醇/水的溶液,其中,氧化石墨烯的质量浓度为0-0.2wt%且不为0,嵌段聚醚酰胺树脂的质量浓度为1-3wt%。
乙醇/水溶液中乙醇和水的质量比优选为7:3。
优选的,铸膜液B中,氧化石墨烯的浓度为0.1wt%。
制备铸膜液B时,先将氧化石墨烯粉末置于乙醇/水混合液中,超声分散均匀后再将嵌段聚醚酰胺树脂Pebax-1657加入前述混合液中,在70-80oC下加热,充分搅拌,回流2-4h,脱泡后得到铸膜液B。
涂覆时,采用dip-coating法依次在底膜上涂覆过渡层、分离层。
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