[发明专利]用于选择性涂覆内表面的方法和系统

权利要求书

1.一种用于掩蔽和去掩蔽结构的内表面的一部分的系统，包括：

(a)掩蔽单元，至少包括主体和手柄，所述主体包括

(i)磁致激活材料，和

(ii)密封形成材料；和

(b)能够产生作用于结构的内部腔上的磁力的物体；

其中，所述掩蔽单元能够被插入到所述结构的所述内部腔中；和

其中，所述磁力能够使得所述掩蔽单元可密封地接触所述结构的内表面的 一部分。

2.如权利要求1所述的系统，其中，所述手柄配置为响应于所述磁力的应 用而弯曲。

3.如权利要求2所述的系统，其中，所述手柄配置为响应于所述磁力的除 去而返回到其自然位置。

4.如权利要求1所述的系统，其中，所述掩蔽单元配置为向所述结构提供 观看孔。

5.如权利要求1所述的系统，其中，所述物体是电磁体。

6.如权利要求1所述的系统，其中，所述物体是永磁体。

7.如权利要求1所述的系统，其中，所述掩蔽单元的厚度小于6毫米。

8.如权利要求1所述的系统，进一步包括配置用于涂覆所述结构的所述内 表面的装置。

9.一种用于选择性地涂覆结构的内表面的一部分的方法，所述方法包括步 骤：

(a)提供包括磁致激活材料和密封形成材料的掩蔽单元；

(b)将所述掩蔽单元插入到所述结构的内部腔中；

(c)激活作用于所述掩蔽单元上的磁力，以使得所述掩蔽单元可密封地接 触所述结构的内表面的一部分，由此产生所述内表面的掩蔽部分；

(d)以涂覆材料覆盖所述结构的所述内表面的未掩蔽部分；

(e)去激活所述磁力，以使得所述掩蔽单元不与所述结构的内表面的所述 部分可密封地接触；和

(f)从所述结构的所述内部腔除去所述掩蔽单元。

10.如权利要求9所述的方法，其中，所述结构是套筒。

11.如权利要求10所述的方法，其中，所述套筒由玻璃、透明陶瓷或者透 明塑料制成。

12.如权利要求10所述的方法，其中，所述套筒的内部腔的宽度小于大约 10毫米。

13.如权利要求10所述的方法，其中，所述方法向所述结构提供观看孔。

14.如权利要求9所述的方法，其中，在从所述结构的内部腔除去所述掩蔽 单元的步骤期间，所述掩蔽单元不接触所述内表面。

15.如权利要求9所述的方法，其中，所述涂覆材料是油墨。

16.如权利要求15所述的方法，其中，涂层具有小于20μm的厚度。

17.如权利要求9所述的方法，其中，选择所述涂覆材料以向所述结构的未 掩蔽部分提供从由以下组成的组中选出的至少一个表面性质：耐刮性、耐磨性、 粘附性质、可湿性、耐腐蚀性、抗反射性质、抗眩光性质、抗碎性质和抗微生 物性质。

18.如权利要求9所述的方法，其中，所述涂覆步骤包括排流涂覆。

19.如权利要求9所述的方法，进一步包括通过将所述结构暴露给紫外辐射 和/或升高的温度来固化涂层。

20.如权利要求9所述的方法，其中，激活所述磁力包括(i)使得永磁体 接近所述结构或(ii)令电流通过电磁体。