[发明专利]一种改善光纤筛选强度和涂覆同心度的装置及方法有效
申请号: | 201510736454.X | 申请日: | 2015-11-03 |
公开(公告)号: | CN105271826B | 公开(公告)日: | 2018-11-23 |
发明(设计)人: | 沈小平;蒋小强;向德成;徐震玥;陈坤;何炳;费梦佳 | 申请(专利权)人: | 江苏通鼎光棒有限公司 |
主分类号: | C03C25/12 | 分类号: | C03C25/12 |
代理公司: | 天津滨海科纬知识产权代理有限公司 12211 | 代理人: | 杨慧玲 |
地址: | 215200 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 改善 光纤 筛选 强度 同心 装置 方法 | ||
本发明提供了一种改善光纤筛选强度和涂覆同心度的装置,包括拉丝炉和主驱动轮;以及位置测量仪,靠近拉丝炉下口设置,用于测量裸光纤位置偏差;自动调整装置,其上安装涂覆模具;PLC机,与自动调整装置连接,用于计算涂覆模具需要位置偏移和角度偏转的方向及数值,并控制自动调整装置驱动所述涂覆模具水平移动和角度偏移;拉丝炉中心、位置测量仪中心以及涂覆模具中心处在同一竖直线上,且三者中心所在的直线与主驱动轮相切。本发明能在线对涂覆模具的位置或角度进行调整,使裸光纤在任何情况下均从涂覆模具孔的中心通过,以减小裸光纤被上模具口碰擦的概率,从而优化光纤的筛选强度报废,同时也提高了光纤的涂覆同心度。
技术领域
本发明属于光纤制造技术领域,尤其是涉及一种改善光纤筛选强度和涂覆同心度的装置及方法。
背景技术
对于光纤拉丝工艺,光纤的筛选强度报废一直是体现工艺控制水平最重要的一项指标,也是比例最大的一类报废。特别是随着拉丝速度的不断提高,光纤筛选强度的报废对工艺条件的控制越来越敏感。影响光纤强度的因素和环节非常多,如预制棒清洗、拉丝通道洁净度的控制/拉丝炉的设计和维护等。另外,涂覆模具对拉丝强度的影响也非常大:由于现在预制棒尺寸越来越大,拉丝过程中预制棒在线调整水平方向位置越来越困难,所以拉丝过程中光纤的位置肯定会发生一定的偏移,这样裸光纤擦碰到涂覆模具入模口的几率就会大大增加,从而引起光纤筛选强度报废。
光纤筛选强度是指光纤承受一定荷载时其性能保持不变的能力。光纤需要过2%的筛选应变(相当于17N抗拉强度)。按照石英玻璃原子间的结合力推算,光纤的理论断裂强度高达20~26GN/m2,但是,裸光纤的断裂强度仅为0.1~0.2GN/m2(相当于1.25~2.5N抗拉强度),这主要是由于表面裂纹、内部缺陷、杂质、气泡所致。为保护光纤原始强度,防止光纤表面受损产生微裂纹,对刚拉出的裸光纤进行涂覆,可有效地保护光纤的原始强度。然而,光纤制造过程中经制棒、拉丝、涂覆等几道工序,故产品不可避免的存在一些缺陷,如微裂纹、杂质、气泡等,这就为以后裂纹生长和断裂提供了契机。造成光纤强度下降的因素很多,裸光纤擦碰到模具口就是造成筛选强度报废最重要的原因之一。
涂层的作用是使拉制好的光纤表面不受机械损伤,防止裸光纤断裂。在光纤拉丝塔上对裸光纤立即进行涂覆,将它未受侵蚀的、洁净的表面保护好,防止光纤擦伤和受环境污染,保持光纤连续拉制过程中形成的玻璃原有状态。涂覆同心度偏离,涂层不完整、不连续都严重危及光纤强度,所以在连续拉丝过程中,控制涂覆同心度十分重要。
涂覆同心度在拉丝过程中容易受到外界的影响而发生变化。为了使涂覆同心度不偏离,要尽可能的使裸光纤保持在中心位置,稍有偏差应及时调整,以免由于涂覆同心度的偏离而形成强度的薄弱点。
光纤涂层的涂覆方式一般分为单涂覆(湿对湿)与双涂覆(湿对干),但他们本质上没有区别。单涂覆可以节约较大的空间,使拉丝塔总体高度下降,同时,如果模具调节的好的话,生产出来的光纤同心度会很好,但是模具使用前的调节非常重要,需要比较高的技能和技巧。双涂覆则不需要对模具进行精确调节,使用前的准备工作相对简单,但是因为是分开进行涂覆,这种情况下占用了较多的拉丝塔空间,拉丝塔相对要高一些。
湿对湿涂覆工艺由于其具备很大的升速潜能,同时能够提高相关的光纤性能,被很多主流生产厂商使用。但是由于模具设计及拉丝塔分布的不同,其涂覆层同度稳定性相对差一些。如果能在拉丝过程中很好的控制涂覆同心度,光纤的制造成本将大大降低。
发明内容
有鉴于此,本发明旨在提出一种改善光纤筛选强度和涂覆同心度的装置及方法,能够在线对涂覆模具的位置或角度进行自动调整,使裸光纤在任何情况下均从涂覆模具孔的中心通过,以减小裸光纤被上模具口碰擦的概率,从而优化光纤的筛选强度报废,同时也提高了光纤的涂覆同心度。
为达到上述目的,本发明的技术方案是这样实现的:
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