[发明专利]台面型雪崩光电探测器有效

专利信息
申请号: 201510736540.0 申请日: 2015-11-03
公开(公告)号: CN105405917A 公开(公告)日: 2016-03-16
发明(设计)人: 杨晓红;尹冬冬;何婷婷;叶焓;王帅;韩勤 申请(专利权)人: 中国科学院半导体研究所;上海雨然信息技术公司
主分类号: H01L31/107 分类号: H01L31/107
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 任岩
地址: 100083 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 台面 雪崩 光电 探测器
【权利要求书】:

1.一种台面型雪崩光电探测器,用于高速单光子探测,包括:

一衬底;

一N型欧姆接触层,其制作在衬底上;

一吸收层,其制作在N型欧姆接触层上的中间位置,该N型欧姆接触层的两侧形成台面;

一电荷层,其制作在吸收层上;

一倍增层,其制作在电荷层上;

一欧姆接触层,其扩散或外延制作在倍增层上的中间部位;

一N型金属电极,其制作在N型欧姆接触层表面的两侧台面上;

一P型金属电极,其制作在欧姆接触层和倍增层表面的连接处,该P型金属电极的中间形成一窗口;

一减反层,其制作在P型金属电极中间的窗口内;

一侧壁高掺层,其制作在梯形的吸收层的侧壁上,该侧壁高掺层的下端延伸到N型欧姆接触层的表面,上端延伸到倍增层顶缘;

一表面钝化层,其制作在侧壁高掺层的上面,并覆盖部分倍增层。

2.如权利要求1所述的台面型雪崩光电探测器,其中侧壁高掺层为P型,与之相邻的吸收层、电荷层和倍增层形成侧向结。

3.如权利要求1所述的台面型雪崩光电探测器,其中所述制作的侧壁高掺层是通过注入或者扩散的方法进行的。

4.如权利要求1所述的台面型雪崩光电探测器,其中该吸收层的断面为梯形结构或陡直的结构,该吸收层的侧壁是用湿法构建或采用离子刻蚀方法形成。

5.如权利要求1所述的台面型雪崩光电探测器,其中欧姆接触层的材料是InP的P型扩散结构,或是InP/InGaAs的外延结构。

6.如权利要求5所述的台面型雪崩光电探测器,其中欧姆接触层是通过两次扩散形成的。

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