[发明专利]台面型雪崩光电探测器有效
申请号: | 201510736540.0 | 申请日: | 2015-11-03 |
公开(公告)号: | CN105405917A | 公开(公告)日: | 2016-03-16 |
发明(设计)人: | 杨晓红;尹冬冬;何婷婷;叶焓;王帅;韩勤 | 申请(专利权)人: | 中国科学院半导体研究所;上海雨然信息技术公司 |
主分类号: | H01L31/107 | 分类号: | H01L31/107 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 任岩 |
地址: | 100083 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 台面 雪崩 光电 探测器 | ||
1.一种台面型雪崩光电探测器,用于高速单光子探测,包括:
一衬底;
一N型欧姆接触层,其制作在衬底上;
一吸收层,其制作在N型欧姆接触层上的中间位置,该N型欧姆接触层的两侧形成台面;
一电荷层,其制作在吸收层上;
一倍增层,其制作在电荷层上;
一欧姆接触层,其扩散或外延制作在倍增层上的中间部位;
一N型金属电极,其制作在N型欧姆接触层表面的两侧台面上;
一P型金属电极,其制作在欧姆接触层和倍增层表面的连接处,该P型金属电极的中间形成一窗口;
一减反层,其制作在P型金属电极中间的窗口内;
一侧壁高掺层,其制作在梯形的吸收层的侧壁上,该侧壁高掺层的下端延伸到N型欧姆接触层的表面,上端延伸到倍增层顶缘;
一表面钝化层,其制作在侧壁高掺层的上面,并覆盖部分倍增层。
2.如权利要求1所述的台面型雪崩光电探测器,其中侧壁高掺层为P型,与之相邻的吸收层、电荷层和倍增层形成侧向结。
3.如权利要求1所述的台面型雪崩光电探测器,其中所述制作的侧壁高掺层是通过注入或者扩散的方法进行的。
4.如权利要求1所述的台面型雪崩光电探测器,其中该吸收层的断面为梯形结构或陡直的结构,该吸收层的侧壁是用湿法构建或采用离子刻蚀方法形成。
5.如权利要求1所述的台面型雪崩光电探测器,其中欧姆接触层的材料是InP的P型扩散结构,或是InP/InGaAs的外延结构。
6.如权利要求5所述的台面型雪崩光电探测器,其中欧姆接触层是通过两次扩散形成的。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院半导体研究所;上海雨然信息技术公司,未经中国科学院半导体研究所;上海雨然信息技术公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510736540.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的