[发明专利]一种可调慢波结构微波器件装置有效

专利信息
申请号: 201510739312.9 申请日: 2015-11-04
公开(公告)号: CN105244247B 公开(公告)日: 2017-03-15
发明(设计)人: 张运俭;许州;丁恩燕;李正红;马乔生;吴洋 申请(专利权)人: 中国工程物理研究院应用电子学研究所
主分类号: H01J23/24 分类号: H01J23/24
代理公司: 成都九鼎天元知识产权代理有限公司51214 代理人: 詹永斌
地址: 621000 四川*** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 可调 结构 微波 器件 装置
【说明书】:

技术领域

本发明专利涉及高功率微波器件技术领域,具体涉及一种可调慢波结构盘荷波导微波器件装置。

背景技术

在采用盘荷波导作为慢波结构的微波器件技术中,为了实现器件输出频率可调,一般采用调节输入微波器件电压和电流来实现微波器件输出微波频率的变化。这种频率可调技术要求脉冲功率源具有很大的电压调节范围,但在器件输出高功率微波状态下,器件内电子束速度接近于光速,因此对电压的变化很不敏感,并且一般脉冲源也只能提供有限的电压调节能力。采用盘荷波导作为慢波结构的相对论高功率微波器件中,辐射微波频率与盘荷波导周期长度之间的乘积基本为一常数,因此可以采用调节盘荷波导周期的方式实现辐射微波频率的调节。这种调节方式对微波频率的改变最为直接、明显,且可以实现高功率微波器件较大频率范围的调谐。

目前对采用周期慢波结构的高功率微波器件的频率调节中,一般方法是设计多套周期长度不同的慢波结构,然后通过一套慢波结构实现一个频率点高功率微波输出。

发明内容

本发明的目的是提供一套装置,实现对于不同频率下的辐射微波频率的调节。

为了实现上述目的,本发明采用如下技术方案:

一种可调慢波结构盘荷波导微波器件装置,包括外圆波导和设置在外圆波导内的螺杆和若干个慢波结构盘片,所述若干个慢波结构盘片与外圆波导同轴,螺杆设置在慢波结构盘片与外圆波导之间,且螺杆与外圆波导的轴线平行;

所述每一个慢波结构盘片的固定连接部上设置有螺纹孔,所述螺杆外表面设置有螺纹,螺杆穿过慢波结构盘片上固定连接部位的螺纹孔,螺纹孔的内螺纹与螺杆的外螺纹啮合;

所述若干个慢波结构盘片依次成等差间距与螺杆连接。

在上述技术方案中,所述外圆波导的内壁上设置有卡槽,慢波结构盘片的固定连接部上设置有卡扣,所述卡扣设置在卡槽内。

在上述技术方案中,所述卡槽沿着外圆波导内壁上与外圆波导的轴线平行。

在上述技术方案中,所述外圆波导内壁上设置有若干个卡槽,卡槽均匀分布在外圆波导内壁上,且卡槽的长度与外圆波导的长度一致。

在上述技术方案中,所述螺杆的一端通过轴承连接到外圆波导上,使得螺杆只能转动不能沿外圆波导轴线运动。

在上述技术方案中,所述慢波结构盘片的数量可调,两个慢波结构盘片之间的距离可调,两个慢波结构盘片与螺杆连接后的间距可调。

在上述技术方案中,从第一个慢波结构盘片依次到最后一个慢波结构盘片,每一个螺纹孔对应的螺杆上的螺纹距不同。

在上述技术方案中,从第一个慢波结构盘片的螺纹孔到最后一个慢波结构盘片的螺纹孔对应螺杆上的螺纹均逐步变大。

在上述技术方案中,每个螺纹孔对应的螺纹距成等差数列,差值为第一个螺纹孔对应的螺纹距。

一种中心孔盘荷波导周期均匀可调装置的调整方法,按等差间距设置好慢波结构盘片和螺杆连接后,转动螺杆,慢波结构盘片在螺杆螺纹的带动下做轴线运动,使得每一个慢波结构盘片的沿着外圆波导的轴线运动,运动距离成等差数列,差值为第一个慢波结构盘片的移动距离。

综上所述,由于采用了上述技术方案,本发明的有益效果是:

利用中心孔盘荷波导周期均匀可调装置发明技术,可以实现高功率微波器件频率在线、远程可调,单一器件可依次实现不同频率的高功率微波输出。本发明的中心孔盘荷波导周期可调装置能够保证慢波结构周期大范围尺寸的调节,结构灵活多变,在高功率微波器件中可以很好的实现辐射微波频率的调节。

附图说明

本发明将通过例子并参照附图的方式说明,其中:

图1是本发明的结构立体示意图;

图2是本发明的正视图;

图3是本发明A面剖视图;

其中:1是外连圆波导,2是螺杆,3是慢波结构盘片,4、5、6为螺杆中具有等差螺纹距的三段。

具体实施方式

如图1、图2、图3所示,本发明的一种可调慢波结构盘荷波导微波器件装置,包括外圆波导和设置在外圆波导内的螺杆和若干个慢波结构盘片,所述若干个慢波结构盘片与外圆波导同轴,螺杆设置在慢波结构盘片与外圆波导之间,且螺杆与外圆波导的轴线平行。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国工程物理研究院应用电子学研究所,未经中国工程物理研究院应用电子学研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510739312.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top