[发明专利]有机发光显示装置及其制造方法有效
申请号: | 201510740743.7 | 申请日: | 2015-11-04 |
公开(公告)号: | CN105609525B | 公开(公告)日: | 2018-12-04 |
发明(设计)人: | 金钟炅;莲见太朗 | 申请(专利权)人: | 乐金显示有限公司 |
主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32;H01L51/56 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 蔡胜有;董文国 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 有机 发光 显示装置 及其 制造 方法 | ||
1.一种有机发光显示装置,包括:
基板;
设置在所述基板上的薄膜晶体管层;
平坦化膜,所述平坦化膜设置在所述薄膜晶体管层上以平坦化所述薄膜晶体管层;
设置在所述平坦化膜上的阳极线,所述阳极线露出所述平坦化膜在所述显示装置的对应于所述显示装置的显示区外侧的周边区的非显示区中的部分;以及
吸水有机膜,所述吸水有机膜设置在所述平坦化膜的通过所述阳极线露出的部分上并且包括配置为至少部分地吸收来自所述平坦化膜的出气的有机材料,
其中所述有机发光显示装置还包括堤坝,所述堤坝设置在所述平坦化膜的通过所述阳极线露出的部分上。
2.根据权利要求1所述的有机发光显示装置,还包括:
设置在所述堤坝上的无机膜,所述无机膜露出所述堤坝在所述非显示区中的部分,
其中所述吸水有机膜设置在所述堤坝的通过所述无机膜露出的部分上,
其中所述吸水有机膜直接机械接触所述堤坝的通过所述无机膜露出的部分。
3.根据权利要求2所述的有机发光显示装置,其中所述堤坝的通过所述无机膜露出的部分至少部分地交叠所述平坦化膜的通过所述阳极线露出的部分。
4.根据权利要求2所述的有机发光显示装置,其中所述阳极线包括用于露出所述平坦化膜在所述非显示区中的部分的第一孔,其中所述第一孔被所述堤坝所填充。
5.根据权利要求4所述的有机发光显示装置,其中所述无机膜包括用于露出所述堤坝在所述非显示区中的部分的第二孔,其中所述第二孔被所述吸水有机膜所填充。
6.根据权利要求1所述的有机发光显示装置,其中所述堤坝包括露出所述平坦化膜的通过所述阳极线露出的部分的子部分的孔,以及其中所述吸水有机膜填充所述孔以接触所述子部分,
其中所述吸水有机膜经由所述堤坝中的所述孔直接机械接触所述平坦化膜。
7.根据权利要求1所述的有机发光显示装置,其中所述吸水有机膜直接机械接触所述平坦化膜的通过所述阳极线露出的部分。
8.根据权利要求1所述的有机发光显示装置,其中所述吸水有机膜包括环氧树脂和有机金属络合物,
其中所述环氧树脂与所述有机金属络合物的重量百分比为9:1。
9.根据权利要求1所述的有机发光显示装置,其中所述吸水有机膜设置在所述显示区和所述非显示区中。
10.根据权利要求1所述的有机发光显示装置,其中所述吸水有机膜仅设置在所述非显示区中。
11.根据权利要求10所述的有机发光显示装置,还包括设置在所述显示区中与所述吸水有机膜相邻的透明有机膜,
其中所述吸水有机膜具有比所述透明有机膜高的吸水能力,
其中所述透明有机膜包括环氧树脂、丙烯酸酯、聚氨酯丙烯酸酯、聚脲、聚丙烯酸酯、苝四羧酸二酐(PTCDA)、联苯四羧酸二酐(BPDA)或均苯四甲酸二酐(PMDA)中的至少之一。
12.一种制造有机发光显示装置的方法,所述方法包括:
在基板上形成薄膜晶体管层;
在所述薄膜晶体管层上形成平坦化膜用于平坦化所述薄膜晶体管层;
在所述平坦化膜上形成阳极线,所述阳极线露出所述平坦化膜在所述显示装置的对应于所述显示装置的显示区外侧的周边区的非显示区中的部分;以及
在所述平坦化膜的通过所述阳极线露出的部分上形成吸水有机膜,其中所述吸水有机膜包括配置为至少部分地吸收来自所述平坦化膜的出气的有机材料,
其中所述方法还包括在所述平坦化膜的通过所述阳极线露出的部分上形成堤坝。
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H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
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