[发明专利]X射线光栅成像系统

权利要求书

1.一种X射线光栅成像系统，其特征在于，包括一X射线管、一吸收光栅、一样品台、一相位光栅、一X射线栅格荧光转换屏以及一可见光探测器；所述X射线管、所述吸收光栅、所述样品台、所述相位光栅、所述X射线栅格荧光转换屏及所述可见光探测器按照X射线传播方向依次排序；其中，所述X射线栅格荧光转换屏包括：

至少一透光层，用以透过X射线；

至少一波导层，包覆在所述透光层表面，可见光在所述波导层表面实现全反射；以及

至少一荧光层，用以将X射线转换为可见光；

其中，至少一透光层及至少一荧光层相间排列且紧密贴合，形成一光栅结构。

2.如权利要求1所述的X射线光栅成像系统，其特征在于，所述吸收光栅、所述相位光栅与所述X射线栅格荧光转换屏皆为平板形状，所述吸收光栅、所述相位光栅与所述X射线栅格荧光转换屏彼此平行，所述X射线栅格荧光转换屏与所述可见光探测器紧密贴合。

3.如权利要求1所述的X射线光栅成像系统，其特征在于，所述X射线管与所述吸收光栅的距离为10毫米～80毫米；所述吸收光栅与所述相位光栅的距离为1200毫米～1800毫米；所述相位光栅与所述可见光探测器的距离为80毫米～200毫米；所述X射线栅格荧光转换屏的长度为10厘米～15厘米，其宽度为10厘米～15厘米，其厚度为100微米～200微米；所述吸收光栅的长度为10厘米～15厘米，其宽度为10厘米～15厘米，其厚度为100微米～200微米。

4.如权利要求1所述的X射线光栅成像系统，其特征在于，所述透光层的宽度为3微米～10微米，其深度为100微米～200微米；所述荧光层的宽度为5微米～20微米，其深度为100微米～200微米。

5.如权利要求1所述的X射线光栅成像系统，其特征在于，所述透光层的宽度为与所述荧光层的宽度的比例为0.8：1~1.2:1。

6.如权利要求1所述的X射线光栅成像系统，其特征在于，所述透光层的材质为硅材料；所述波导层的材质为二氧化硅材料，所述荧光层的材质为X射线荧光物质材料。

7.如权利要求1所述的X射线光栅成像系统，其特征在于，所述吸收光栅包括：

至少一吸收光栅阻光层，用以阻挡X射线；以及

至少一吸收光栅透光层，用以透过X射线及保护所述吸收光栅阻光层；

其中，至少一吸收光栅透光层及至少一吸收光栅荧光层相间排列且紧密贴合，形成一光栅结构。

8.如权利要求7所述的X射线光栅成像系统，其特征在于，所述吸收光栅阻光层的宽度为20微米～60微米，其深度为100微米～200微米；所述吸收光栅透光层的宽度为5微米～20微米，其深度为100微米～200微米。

9.如权利要求7所述的X射线光栅成像系统，其特征在于，所述吸收光栅阻光层的宽度为与所述吸收光栅透光层的宽度的比例为2：1~4:1。

10.如权利要求7所述的X射线光栅成像系统，其特征在于，所述吸收光栅阻光层的材质为金属铋材料；所述吸收光栅透光层的材质为硅材料。