[发明专利]一种米格列奈钙的制备新方法在审
申请号: | 201510746211.4 | 申请日: | 2015-11-05 |
公开(公告)号: | CN105330585A | 公开(公告)日: | 2016-02-17 |
发明(设计)人: | 林富荣;秦亮 | 申请(专利权)人: | 常州大学 |
主分类号: | C07D209/44 | 分类号: | C07D209/44 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 213164 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 米格 列奈钙 制备 新方法 | ||
技术领域
本发明涉及降糖药物的制备方法,具体来说是一种以(S)-2-苄基丁二酸为原料制备米格列奈钙的方法。
背景技术
米格列奈钙(MitiglinideCalcium),化学名为双(2S)-2-苄基-3-(cis-六氢异吲哚啉-2-羰基)-丙酸一钙二水合物,是由日本橘生制药公司开发的一种Ⅱ型糖尿病治疗药物。相对于传统的糖尿病治疗药物,具有起效更快,半衰期短,疗效更强等优点,既有利于降低糖尿病患者的餐后血糖,又可避免持续降糖引发的血糖过低,有“体外胰腺”之美称。其结构式如下:
文献报道的合成方法多以(S)-2-苄基丁二酸为原料,按照合成路线的不同主要可分为活性酯法、酰胺法和酸酐法。
活性酯法:1998年Yamaguchi等,2009年曹小辉等报道了活性酯法制备米格列奈钙的方法。
该方法以(S)-2-苄基丁二酸为原料,与羟基化合物反应生成二元活性酯,活性酯与顺式全氢异吲哚发生选择性酰胺化反应;再在碱性条件下水解、成盐得产品米格列奈钙。该方法具有较好的区域选择性,但反应步骤多,操作过程繁琐,产品收率低;再者,合成中要用到较多辅助原料,合成成本高。因而,此条路线不适合工业化生产。
酰胺法:专利CN1844096A报道了酰胺法制备米格列奈钙的方法。
该方法以(S)-2-苄基丁二酸为原料,与咪唑、顺式全氢异吲哚经“一锅法”反应得到米格列奈酸;再经成盐得产品米格列奈钙。“一锅法”避免了中间体的分离与提纯,简化了实验操作,但二元酰胺活性差,与顺式全氢异吲哚酰胺化反应收率较低。另外,该方法同样存在用到较多辅助原料而成本较高的问题,而且事实上所得产品中仍存在异构体副产物。
酸酐法:专利CN1680321A、CN102101838A报道了酸酐法合成米格列奈钙的方法。
该方法以(S)-2-苄基丁二酸为原料,在乙酸酐条件下脱水生成(S)-2-苄基丁二酸酐,酸酐与顺式全氢异吲哚发生酰胺化反应生成米格列奈酸;再经成盐得产品米格列奈钙。该方法工艺简洁,不足之处是酰胺化反应步骤区域选择性差,所得产品存在异构体副产物,产品纯化困难。这也是该法虽然路线简洁,成本低,但没有工业化的原因。所以,如果提高了该法酰胺化反应的区域选择性,或把酰胺化的副产物分离出来,提高产物纯度,最终得到合格产品,则该法无论从工艺简洁方面,还是原料成本方面都优于活性酯法与酰胺法。
发明内容
本发明的目的在于克服上述已有米格列奈钙制备方法的不足,对现有酸酐法进行改进与优化,即对酰胺化产物米格列奈酸a及其异构体副产物b进行分离纯化,进一步将异构体副产物b转化为米格列奈酸a,由所得米格列奈酸a制备目标产物米格列奈酸钙。提供了一种工艺简洁,生产成本低,收率高,副产物异构体可控的米格列奈钙的制备新方法。
为了实现上述目的,本发明的技术方案包括如下步骤:
(1)以(S)-2-苄基丁二酸为原料,乙酸酐存在下,非质子溶剂中加热脱水生成(S)-2-苄基丁二酸酐;
(2)(S)-2-苄基丁二酸酐与顺式全氢异吲哚经酰胺化反应生成米格列奈酸a及其异构体副产物b;
(3)利用米格列奈酸a与其异构体副产物b在非质子溶剂中溶解度的差异,将米格列奈酸a与其异构体副产物b分离;
(4)在非质子溶剂中加热将米格列奈酸的异构体b部分转化为米格列奈酸a,冷却滤出未转化的米格列奈酸的异构体b;采用前述方法,再将滤出的未转化的米格列奈酸的异构体b部分转化为米格列奈酸a,分出b,如此转化、分离3~5次,合并滤液,脱溶剂得米格列奈酸a;
(5)所得米格列奈酸a,经酸碱成盐、盐交换得产品米格列奈钙。
所述步骤(1)中使用的非质子溶剂是指甲苯或异丙醚,优选甲苯。
所述步骤(2)中的反应温度优选-10~5℃;顺式全氢异吲哚与(S)-2-苄基丁二酸酐摩尔量比优选1.05~1.15。
所述步骤(3)中非质子溶剂是指苯、甲苯、二甲苯、乙腈、乙酸乙酯中的一种,或多种的混合溶液。优选乙酸乙酯。
所述步骤(4)中非质子溶剂是指苯、甲苯、二甲苯中的一种,或多种的混合溶液。优选甲苯。
所述步骤(4)中米格列奈酸的异构体b转化为米格列奈酸a反应是个平衡反应,每次只能部分转化,所以要多次转化,分离。
所述步骤(4)中米格列奈酸的异构体b转化为米格列奈酸a反应温度为50-180℃。优选在溶剂回流温度下进行。
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