[发明专利]调色剂有效

专利信息
申请号: 201510767952.0 申请日: 2015-11-11
公开(公告)号: CN105607436B 公开(公告)日: 2019-11-12
发明(设计)人: 津田祥平;松井崇;有村怜士;浦谷梢;田中启介;冈本直树 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: G03G9/08 分类号: G03G9/08;G03G9/083
代理公司: 北京魏启学律师事务所 11398 代理人: 魏启学
地址: 日本东京都大*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 调色
【说明书】:

本发明涉及调色剂。提供一种调色剂,其包括:含有粘结树脂和着色剂的调色剂颗粒;与无机细颗粒,其中所述调色剂颗粒具有0.960以上的平均圆形度,并且其中所述调色剂满足式(1)和式(2):Fp(A)≤25.0nN式(1),(Fp(B)‑Fp(A))/Fp(A)≤0.60式(2)。

技术领域

本发明涉及用于使电子照相术中的静电图像可视化的图像形成方法中的调色剂。

背景技术

近年来,已要求诸如复印机或打印机等图像形成设备不仅提供高的图像品质,而且具有更长的寿命和更小的尺寸。

将图像形成设备(特别地,打印机)小型化的可行的方式是减小调色剂承载体的直径或取消用于使用调色剂供给调色剂承载体的供给辊。在减小调色剂承载体的直径的情况下,调色剂承载体具有增大的曲率,这导致赋予电荷的调色剂承载体与显影剂调节构件(下文中称为调节部)之间的接触区域的面积减少。该条件对于在调节部中赋予电荷是严苛的。另外,在取消供给辊的情况下,将调色剂输送至调色剂承载体的性能变得不良,因此难以均匀地将调色剂输送至调节部。该条件对于均匀地赋予电荷是严苛的。

另外,近年来,复印机和打印机等的使用在新兴国家中已经快速增加。分类为新兴国家的国家与发达国家相比经常具有更加高温和更加高湿的环境。因此,盒中的调色剂倾向于吸附水分,并且关注到由于带电不良而产生的对图像的不利效果。

鉴于前述状况,必要的是解决在未来当小型化的打印机放在高温高湿环境下并且在各种各样的条件下长时间使用时可能产生的问题。就这点,迄今已经提出了各种调色剂改进方法。

日本专利申请特开No.2011-13441中,公开了将层状无机矿物添加至调色剂颗粒来抑制脱模剂渗出到它们的表面,结果是可以减少调色剂间的内聚力并且甚至在高温地区也可以将带电性能稳定化。

日本专利申请特开No.2007-322919中,公开了当通过溶胶凝胶法获得的、具有窄的粒度分布的大粒径的二氧化硅颗粒用于调色剂时,可以长时间地获得稳定的带电性。

日本专利申请特开No.2012-118541中,公开了,减少具有窄的粒度分布的大粒径的二氧化硅的硅烷醇基团数目,从而不管环境如何都改进调色剂的流动性,因而获得稳定的带电性能。

日本专利申请特开No.2012-63636中,公开了烷基硅烷用于二氧化硅的表面处理来改进带电性能。

发明内容

然而,作为由本发明的发明人进行的研究的结果,已发现上述文献中公开的调色剂具有下述问题。日本专利申请特开No.2011-13441中公开的调色剂关注于由于由调色剂颗粒或外部添加剂在高湿度环境下的水分的吸收而造成的电荷泄漏,因此可能在确保充分的带电量上具有困难。日本专利申请特开No.2007-322919中公开的通过溶胶凝胶法获得的大粒径的二氧化硅颗粒由于二氧化硅颗粒的表面上的硅烷醇基团而在高温高湿环境下具有高的吸湿性,因此可能不能确保高饱和带电量。结果,存在对所谓起雾的加剧的关注,起雾是其中具有这样低的带电量的调色剂在图像承载构件的非图像区域上显影的现象。另外,大粒径的二氧化硅颗粒在长时间使用之后迁移至调色剂颗粒的凹部,因此在一些情况下变得难以显示出有效的功能。日本专利申请特开No.2012-118541中公开的调色剂取决于调色剂颗粒的形状可以通过长时间使用而迁移至二氧化硅的凹部,结果是不能确保稳定的流动性且在一些情况下不能确保调节部中的均匀带电。日本专利申请特开No.2012-63636中公开的调色剂随着打印机进一步小型化可能在高温高湿环境下具有不充分的在调节部中的电荷赋予能力。如上所述,当考虑到在高温高湿环境下的长时间使用时,对获得令人满意的带电特性存在改进余地。

本发明的目的是提供在高温高湿环境下经长时间使用也显示令人满意的起雾抑制特性的调色剂。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于佳能株式会社,未经佳能株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510767952.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top