[发明专利]一种基于高光谱成像的监控激光清洗进程的方法

权利要求书

1.一种基于高光谱成像的监控激光清洗进程的方法，其特征在于包括以下步骤：

1)将基质和表面待处理物质置于高光谱监测系统中，获取它们的高光谱图像；

2)将清洗中的样品同样放在相同条件下的高光谱监测系统中，得到清洗过程中样品的高光谱图像；

3)将所得的高光谱数据及图像进行处理；

4)利用公式(1)对上述图像进行处理，得到不同波长下反射率的校正比值：

CL(λ)=RT(λ)-RC(λ)RG(λ)-RC(λ),---(1)]]>

其中，CL(λ)为某一波长对应的反射率校正比值，RT(λ)、RC(λ)和RG(λ)分别是清洗内区域的发射率、表面待处理物质的反射率和原始基质的反射率，当CL(λ)≥90％时判断该区域内被清洗干净，输出相应的数据。

2.如权利要求1所述的一种基于高光谱成像的监控激光清洗进程的方法，其特征在于所述步骤1)中基质可以是金属，此时表面待处理物质是表面污染物、油漆或锈迹。

3.如权利要求1所述的一种基于高光谱成像的监控激光清洗进程的方法，其特征在于所述步骤1)中基质可以是石料，此时表面待处理物质为表面沉积物或者青苔。

4.如权利要求1-3中任一项所述的一种基于高光谱成像的监控激光清洗进程的方法，其特征在于：所述步骤2)中清洗中的样品的高光谱数据的采集使用与步骤1)中同一高光谱成像仪，并在同一测试条件下操作。

5.如权利要求4所述的一种基于高光谱成像的监控激光清洗进程的方法，其特征在于：所述步骤3)中高光谱数据及图像的处理包括白板校正、暗电流校正以及噪声去除。

6.如权利要求5所述的一种基于高光谱成像的监控激光清洗进程的方法，其特征在于：所述的白板校正使用的是平场域纠正法，使用高光谱成像仪扫描反射率为99.99％的白色标准校正板后得到全白的的高光谱图像，通过公式(2)将图像中每一像素定标为反射率，所述公式(2)如下：