[发明专利]具有室温电控磁特性的锰掺氧化锌-铁酸铋外延异质结构的制备方法有效

专利信息
申请号: 201510771425.7 申请日: 2015-11-12
公开(公告)号: CN105369201B 公开(公告)日: 2018-06-08
发明(设计)人: 白海力;李栋;郑东兴;金朝 申请(专利权)人: 天津大学
主分类号: C23C14/08 分类号: C23C14/08;C23C14/35
代理公司: 天津市北洋有限责任专利代理事务所 12201 代理人: 王丽
地址: 300072 天*** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: 制备 铁酸铋 氧化锌 复合薄膜 复合结构 外延薄膜 异质结构 磁特性 电控 射频磁控溅射法 薄膜制备技术 磁控溅射 磁性转变 单晶基片 室温电阻 外延生长 物理性质 导电基 取向 薄膜 测量 生长 成功 研究
【权利要求书】:

1.一种具有室温电控磁特性的锰掺氧化锌-铁酸铋外延异质结构的制备方法,其特征在于:利用磁控溅射法来制备Zn0.95Mn0.05O-BiFeO3多铁复合外延异质薄膜,具体步骤如下:

1)在外延生长了10~100nm的LaNiO3导电基底的LaAlO3取向单晶基片上制备BiFeO3外延薄膜;

2)在BiFeO3外延薄膜上生长外延Zn0.95Mn0.05O薄膜;

3)测量Zn0.95Mn0.05O-BiFeO3复合薄膜的室温电阻态和磁性转变;

其中所述步骤1)的方法具体为:

(1)选择10%Bi过量的靶材,基底温度为600~700℃,氧气与氩气比为(5.0~20.0):100,溅射压强为1.0~1.2帕,溅射速率为1.8~2.0纳米/分;

(2)BiFeO3外延薄膜厚度为50至200纳米;

所述步骤2)的方法具体为:

(1)采用三靶磁控溅射装置,在射频溅射靶头上安装纯度为99.99%的Mn掺ZnO靶;

(2)将生长好的BiFeO3外延薄膜放置于样品架位置,加热温度为300-500℃,溅射氧气与氩气比为(0.1~3.2):100,溅射压强为1.0~1.2帕;

(3)开启溅射电源,在Mn掺ZnO靶上施加0.15-0.18安培的电流和990~1000伏特的射频电压,薄膜生长速率为8~10纳米/分;

(4)控制Zn0.95Mn0.05O外延薄膜厚度100~200纳米,关闭溅射电源;

所述步骤3)的方法具体为:

(1)将Zn0.95Mn0.05O-BiFeO3复合薄膜在室温下测量复合薄膜不同极化状态下的磁化曲线;

(2)从磁化曲线中读出Zn0.95Mn0.05O-BiFeO3复合薄膜的室温电场控磁效应。

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