[发明专利]一种铝合金溅射靶材及其制备方法

权利要求书

1.一种铝合金溅射靶材，其特征在于，所述铝合金溅射靶材由难熔金属的一种或一种以上，Al和Cu组成；其中，Cu含量为0.1～4wt％，难熔金属含量为0.05～0.5wt％，余量为Al；

所述难熔金属是指熔点高于1650℃的金属。

2.根据权利要求1所述的一种铝合金溅射靶材，其特征在于，所述难熔金属为W、Mo、Ta、Hf或Ru。

3.根据权利要求1所述的一种铝合金溅射靶材，其特征在于，所述的铝合金溅射靶材的纯度在99.995％以上。

4.根据权利要求1所述的一种铝合金溅射靶材，其特征在于，所述铝合金溅射靶材的晶粒均匀，晶粒尺寸在200μm以内。

5.权利要求1-4任一项所述的一种铝合金溅射靶材的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

(1)熔炼：采用高纯原材料，根据Al、Cu和难熔金属的成分要求设定投料配比，进行熔炼，得到高纯合金铸锭；

(2)热机械化处理：对高纯合金铸锭依次进行固溶处理和三向锻造；随后通过中间退火处理消除锻造应力；最后进行多道次往复冷轧，道次变形量控制在8-20％，总变形量达到60％以上，轧制后经过最终退火处理得到溅射靶材坯料；

(3)成型加工：将所得的溅射靶材坯料进行机加工，制备出铝合金单体溅射靶材；或将机加工后的单体溅射靶材与背板焊接制备出复合溅射靶材。

6.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，熔炼采用的高纯原材料的纯度在99.99％以上。

7.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述高纯原材料为高纯铜或高纯铜铝合金，高纯铝、高纯难熔金属单质材料。

8.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，熔炼方式为真空电磁感应静模浇铸或电磁搅拌半连续铸造。

9.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述中间退火处理及结晶退火处理的退火温度为200-480℃，退火时间为1-5h。

10.根据权利要求5所述的一种铝合金溅射靶材，其特征在于，所述冷轧方式为单向或换向轧制。