[发明专利]一种正性光刻胶组合物的制备方法在审
申请号: | 201510781931.4 | 申请日: | 2015-11-16 |
公开(公告)号: | CN105301901A | 公开(公告)日: | 2016-02-03 |
发明(设计)人: | 陈哲;任鲁风;殷金龙 | 申请(专利权)人: | 北京中科紫鑫科技有限责任公司 |
主分类号: | G03F7/004 | 分类号: | G03F7/004;G03F7/027 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 101111 北京市大兴区经济技术*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 光刻 组合 制备 方法 | ||
1.一种正性光刻胶组合物的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
(1)取溶剂溶解光活性物质,搅拌均匀,得到光活性物质溶液;
(2)光活性物质溶液升温至50-54℃,加入聚醚改性的有机硅流平剂和树脂,恒温混合均匀;
(3)升温至80-83℃,恒温搅拌两小时以除去溶剂,得到光刻胶组合物。
2.如权利要求1所述的正性光刻胶组合物的制备方法,其特征在于,所述组合物按重量比为聚醚改性的有机硅流平剂0.4-0.55份、溶剂22-25份、光活性物质2-3份和树脂16-18份。
3.如权利要求1所述的正性光刻胶组合物的制备方法,其特征在于,所述聚醚改性的有机硅流平剂为ETA-735。
4.如权利要求1所述的正性光刻胶组合物的制备方法,其特征在于,所述溶剂为四氢呋喃、丙二醇甲醚醋酸酯和二甲基乙酰胺。
5.如权利要求1所述的正性光刻胶组合物的制备方法,其特征在于,所述四氢呋喃、丙二醇甲醚醋酸酯和二甲基乙酰胺的重量比为(4-6):(13-16):(4-7)。
6.如权利要求1所述的正性光刻胶组合物的制备方法,其特征在于,所述光活性物质为重氮萘醌磺酸酯。
7.如权利要求1所述的正性光刻胶组合物的制备方法,其特征在于,所述树脂为2-羟基乙基丙烯酸甲酯、三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯和甲基丙烯酸正丁酯。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京中科紫鑫科技有限责任公司,未经北京中科紫鑫科技有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510781931.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种光刻胶清洗组合物
- 下一篇:一种光刻胶组合物和形成光刻图案的方法