[发明专利]大阵列高均匀性微透镜阵列制备方法有效
| 申请号： | 201510783114.2 | 申请日： | 2015-11-16 |
| 公开（公告）号： | CN105242332A | 公开（公告）日： | 2016-01-13 |
| 发明（设计）人： | 黄建;向鹏飞;高建威;李佳;雷仁方 | 申请（专利权）人： | 中国电子科技集团公司第四十四研究所 |
| 主分类号： | G02B3/00 | 分类号： | G02B3/00 |
| 代理公司： | 重庆辉腾律师事务所 50215 | 代理人： | 侯懋琪;侯春乐 |
| 地址： | 400060 重庆*** | 国省代码： | 重庆;85 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 阵列 均匀 透镜 制备 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种大阵列高均匀性微透镜阵列制备方法，其特征在于：按如下步骤制作：
1）对器件的晶圆表面进行清洁；
2）在晶圆表面涂覆丙二醇单甲基醚酯、乙氧基乙酸丙酯和丙烯酸树脂的混合物，形成混合物涂层；
3）对混合物涂层进行曝光处理，使混合物涂层完全固化；
4）在混合物涂层表面涂覆PMMA材料，然后加热使PMMA材料固化形成微透镜材料层；
5）采用热蒸发工艺或磁控溅射工艺，在微透镜材料层表面生长掩膜层；
6）采用光刻工艺在掩膜层上光刻出光刻胶掩膜图形；
7）采用刻蚀工艺将光刻胶掩膜图形转移到掩膜层上；
8）采用等离子体干法刻蚀工艺，将掩膜层上的图形转移到微透镜材料层上；
9）采用湿法腐蚀工艺，将残留在微透镜材料层表面的掩膜层去掉；
10）在N2氛围下，将环境温度加热至PMMA材料的热熔温度；保温一定时间后，自然冷却，微透镜加工完成。
2.根据权利要求1所述的大阵列高均匀性微透镜阵列制备方法，其特征在于：所述掩膜层的材料采用金属铝。
3.根据权利要求1所述的大阵列高均匀性微透镜阵列制备方法，其特征在于：所述混合物中三种成分的配比关系为：丙二醇单甲基醚酯、乙氧基乙酸丙酯和丙烯酸树脂按体积比为4:2:1的比例，在避光条件下混合并搅拌均匀。
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