[发明专利]一种在铜合金表面获得高硬度、高耐磨性梯度层的改性方法在审

专利信息
申请号: 201510785955.7 申请日: 2015-11-16
公开(公告)号: CN105349941A 公开(公告)日: 2016-02-24
发明(设计)人: 闫牧夫;朱艳丹;王祎雪;张雁祥;杨林;张孟磊 申请(专利权)人: 哈尔滨工业大学
主分类号: C23C8/36 分类号: C23C8/36
代理公司: 哈尔滨市松花江专利商标事务所 23109 代理人: 王大为
地址: 150001 黑龙*** 国省代码: 黑龙江;23
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摘要:
搜索关键词: 一种 铜合金 表面 获得 硬度 耐磨性 梯度 改性 方法
【权利要求书】:

1.一种在铜合金表面获得高硬度、高耐磨性梯度层的改性方法,其特征在于:所述一种在铜合金表面获得高硬度、高耐磨性梯度层的改性方法是通过如下步骤实现的:

步骤一、采用非平衡磁控溅射镀膜对铜合金表面进行镀CuxTi(1-x)膜;

步骤二、对镀膜后的铜合金表面进行等离子体渗氮处理。

2.根据权利要求1所述一种在铜合金表面获得高硬度、高耐磨性梯度层的改性方法,其特征在于:步骤一不局限于非平衡磁控溅射镀膜技术,可以采用溅射镀膜、离子镀膜、气相沉积镀膜技术。

3.根据权利要求1所述一种在铜合金表面获得高硬度、高耐磨性梯度层的改性方法,其特征在于:步骤二不局限于等离子体渗氮处理方法,可以采用等离子体渗碳、渗氧、渗金属方法。

4.根据权利要求1所述一种在铜合金表面获得高硬度、高耐磨性梯度层的改性方法,其特征在于:步骤一的具体操作过程如下:

步骤A、将铜合金表面抛光,然后在铜合金表面镀CuxTi(1-x)膜,其中0≤x<1;

步骤B、膜层成分由溅射靶的功率调控;

步骤C、膜层厚度由溅射时间调控;

步骤D、使用氩气作为非平衡磁控溅射方法的溅射气体。

5.根据权利要求4所述一种在铜合金表面获得高硬度、高耐磨性梯度层的改性方法,其特征在于:步骤B中Cu靶功率为0~1kW,Ti靶功率为0.5~3kW。

6.根据权利要求4所述一种在铜合金表面获得高硬度、高耐磨性梯度层的改性方法,其特征在于:步骤C中调控时间为2-8h。

7.根据权利要求4所述一种在铜合金表面获得高硬度、高耐磨性梯度层的改性方法,其特征在于:步骤D中氩气的分压为3.7×10-2Torr,磁控管电压为400V,基底偏压为70V,镀膜过程中真空室温度为20~200℃。

8.根据权利要求1所述一种在铜合金表面获得高硬度、高耐磨性梯度层的改性方法,其特征在于:步骤二中使用气氛为氢气和氮气的混合气体,等离子体渗氮温度为600~800℃,保温时间为0.5~4h,流量分别为0.1L/min、0~0.3L/min。

9.根据权利要求1所述一种在铜合金表面获得高硬度、高耐磨性梯度层的改性方法,其特征在于:步骤二中铜合金渗氮结束后在氮气或氩气保护下,从渗氮温度随炉冷却至室温,避免表面氧化。

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