[发明专利]一种处理VOCs的装置及方法

权利要求书

1.一种处理VOCs的装置，所述装置包括壳体(6)，其特征在于，所述壳体(6)内部包括至少两个处理单元，所述至少两个处理单元分层设置，每层处理单元的一侧设置有进气口和排气口，所述进气口和排气口通过阀门与处理单元连通，所述处理单元包括依次连接的吸附单元(1)、光催化单元(2)和电晕单元(3)，所述吸附单元(1)设置于进气口侧；每层处理单元的电晕单元(3)通过连通装置(5)相互连通。

2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述吸附单元(1)、光催化单元(2)和电晕单元(3)中均设置有传感器，所述传感器与控制器相连。

3.根据权利要求1或2所述的装置，其特征在于，所述连通装置(5)具有圆弧结构；

优选地，所述连通装置(5)中设置有气体导流装置(7)。

4.根据权利要求1-3之一所述的装置，其特征在于，所述处理单元包括2个以上的吸附单元(1)；

优选地，所述处理单元包括2个以上的光催化单元(2)；

优选地，所述处理单元包括2个以上的电晕单元(3)。

5.根据权利要求1-4之一所述的装置，其特征在于，所述吸附单元(1)包括过滤网和吸附材料，所述吸附材料涂覆于所述过滤网上；

优选地，所述吸附材料为硅胶、活性氧化铝、活性炭或分子筛中的任意一种或至少两种的组合；

优选地，所述吸附材料表面有敏化剂。

6.根据权利要求1-5之一所述的装置，其特征在于，所述光催化单元(2)包括光源和光催化材料层(22)；

优选地，所述光源为紫外灯组(21)，优选为中压汞灯组；

优选地，所述光催化材料层(22)为掺杂MnO₂、贵金属元素或稀土元素中的任意一种或至少两种的金属氧化物层；

优选地，所述贵金属元素为Au、Pt或Ag中的任意一种或至少两种的组合；

优选地，所述稀土元素为Ce、Zr、La或Ga中的任意一种或至少两种的组合；

优选地，所述金属氧化物为TiO₂、ZnO或Al₂O₃中的任意一种或至少两种的组合。

7.根据权利要求1-6之一所述的装置，其特征在于，所述电晕单元(3)采用高频脉冲电源；

优选地，所述电晕单元(3)的放电极负载有光催化剂。

8.利用权利要求1-7之一所述的装置处理VOCs的方法，其特征在于，所述方法包括如下步骤：

(1)VOCs气体进入一层处理单元，在处理单元中依次进行吸附处理、光催化处理和电晕处理；

(2)步骤(1)排出的气体进入另一层处理单元，依次进行电晕处理、光催化处理和吸附处理后排出。

9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述吸附处理使用的吸附材料为硅胶、活性氧化铝、活性炭或分子筛中的任意一种或至少两种的组合；

优选地，所述吸附材料表面添加有敏化剂。

10.根据权利要求8或9所述的方法，其特征在于，所述光催化处理中使用的光源为中压汞灯；

优选地，所述光催化材料为掺杂MnO₂、贵金属元素或稀土元素中的任意 一种或至少两种的金属氧化物催化剂；

优选地，所述贵金属元素为Au、Pt或Ag中的任意一种或至少两种的组合；

优选地，所述稀土元素为Ce、Zr、La或Ga中的任意一种或至少两种的组合；

优选地，所述金属氧化物为TiO₂、ZnO或Al₂O₃中的任意一种或至少两种的组合；

优选地，所述电晕处理使用的电源为高频脉冲电源；

优选地，所述电晕处理中还进行光催化处理。