[发明专利]一种铜柱结构封装基板及其加工方法有效
申请号: | 201510795892.3 | 申请日: | 2015-11-18 |
公开(公告)号: | CN106711096B | 公开(公告)日: | 2019-07-26 |
发明(设计)人: | 李飒;谷新;熊佳 | 申请(专利权)人: | 深南电路股份有限公司 |
主分类号: | H01L23/14 | 分类号: | H01L23/14;H01L21/48 |
代理公司: | 深圳市深佳知识产权代理事务所(普通合伙) 44285 | 代理人: | 徐翀 |
地址: | 518053 广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 铜柱 基板 结构封装 线路板 铜层 超厚 干膜 通孔 电镀铜工艺 高均匀性 通孔内壁 去除 钻孔 加工 暴露 | ||
1.一种铜柱结构封装基板的加工方法,其特征在于,包括:
提供基板,所述基板具有载板、铜线路层及阻焊层,所述铜线路层处于所述载板表面,所述阻焊层处于所述铜线路层表面;
在所述基板的所述阻焊层表面形成第二铜层;
在所述第二铜层表面粘贴超厚干膜,形成线路板;
对所述线路板进行钻孔,形成铜柱通孔,并在所述铜柱通孔内壁形成第一铜层;
通过电镀铜工艺,在所述铜柱通孔内形成铜柱;
去除所述超厚干膜、所述第二铜层和暴露的所述第一铜层,得到铜柱结构封装基板。
2.根据权利要求1所述的加工方法,其特征在于,所述加工方法还包括:
在所述线路板上形成薄铜层,所述薄铜层与所述第一铜层材料相同。
3.根据权利要求2所述的加工方法,其特征在于,所述通过电镀铜工艺,在所述铜柱通孔内形成铜柱,包括:
在所述薄铜层表面及所述铜柱通孔内电镀铜,形成厚铜层;
对所述厚铜层进行蚀刻,并去除所述薄铜层,形成铜柱,所述厚铜层的表面与所述超厚干膜表面对齐。
4.根据权利要求2所述的加工方法,其特征在于,所述去除所述超厚干膜、所述第二铜层和暴露的所述第一铜层,得到铜柱结构封装基板,包括:
去除所述超厚干膜和所述第二铜层;
对暴露的所述第一铜层进行蚀刻,得到铜柱结构封装基板。
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