[发明专利]适用于圆片光刻工艺的感应装置在审

专利信息
申请号: 201510806229.9 申请日: 2015-11-20
公开(公告)号: CN105319870A 公开(公告)日: 2016-02-10
发明(设计)人: 史进;伍志军 申请(专利权)人: 苏州赛森电子科技有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 南京众联专利代理有限公司 32206 代理人: 顾进
地址: 215699 江苏省苏州市张*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 适用于 光刻 工艺 感应 装置
【权利要求书】:

1.一种适用于圆片光刻工艺的感应装置,其包括有用于对圆片进行传输的上料装置,其特征在于,所述上料装置的前端部设置有感应支架,感应支架之上设置有接近开关,接近开关与上料装置彼此相对。

2.按照权利要求1所述的适用于圆片光刻工艺的感应装置,其特征在于,所述感应支架与上料装置的相对端面之上设置有安置槽体,安置槽体的上端面设置有安置孔,所述接近开关通过安置孔连接至感应支架之上,接近开关的下端部延伸至安置槽体内部。

3.按照权利要求2所述的适用于圆片光刻工艺的感应装置,其特征在于,所述接近开关的下端部连接有传输线缆,所述安置槽体的下端部设置有延伸孔,其与安置孔同轴延伸;所述传输线缆经由延伸孔延伸至外部。

4.按照权利要求3所述的适用于圆片光刻工艺的感应装置,其特征在于,所述接近开关与安置孔上端部与下端部的连接位置分别设置有橡胶减震圈。

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