[发明专利]一种气化炉及煤加氢气化方法

权利要求书

1.一种气化炉，包括：炉体、煤粉喷嘴和含氢气体喷嘴，其特征在于， 所述煤粉喷嘴和所述含氢气体喷嘴均安装在所述炉体的底部，所述气化炉还 包括：

安装在所述炉体内下部的反应内筒，所述煤粉喷嘴和所述含氢气体喷嘴 分别与所述反应内筒相通，所述反应内筒的顶部开口，所述反应内筒用于进 行煤加氢气化反应，生成粗煤气和半焦；

与所述反应内筒和所述炉体之间的环形空间底部相通的气化剂入口，所 述气化剂入口所通入的气化剂的气速能够使所述半焦落入所述环形空间内， 并与所述气化剂发生再次气化反应，生成粗煤气。

2.根据权利要求1所述的气化炉，其特征在于，所述气化炉还包括安装 在所述炉体内的折流板，所述折流板位于所述反应内筒的上方，以阻挡所述 半焦向上运动。

3.根据权利要求2所述的气化炉，其特征在于，所述折流板为向上鼓起 的球面状，且所述折流板在所述反应内筒的顶部所在平面上的正投影覆盖所 述反应内筒的顶部。

4.根据权利要求3所述的气化炉，其特征在于，所述折流板在所述反应 内筒的顶部所在平面上的正投影为圆形，所述反应内筒为圆柱状，所述折流 板在所述反应内筒的顶部所在平面上的正投影的直径为所述反应内筒直径的 1.2倍～1.5倍，所述折流板的顶部与所述反应内筒顶部之间的距离为所述反 应内筒直径的0.8倍～1.2倍。

5.根据权利要求1所述的气化炉，其特征在于，所述气化炉还包括设置 于所述环形空间内的气体分布板，所述气体分布板上分布有若干气孔；

所述气体分布板的一侧抵在所述炉体的内壁上，另一侧抵在所述反应内 筒上，将所述环形空间分割成位于下部的气化剂分布气室和位于上部的反应 室；

所述气化剂分布气室与所述气化剂入口相通，所述反应室用于使所述半 焦发生再次气化反应。

6.根据权利要求5所述的气化炉，其特征在于，所述气体分布板倾斜设 置，且所述气体分布板抵在所述反应内筒上的一侧低于抵在所述炉体内壁上 的一侧。

7.根据权利要求6所述的气化炉，其特征在于，所述气体分布板相对于 所述炉体侧壁的倾斜角度为30°～60°，且所述气体分布板上的气孔均匀分布。

8.根据权利要求1～7任一项所述的气化炉，其特征在于，所述气化剂 入口的数量为多个，且多个所述气化剂入口均匀分布于所述环形空间的周围。

9.根据权利要求1～7任一项所述的气化炉，其特征在于，所述气化炉 还包括至少一个排渣口，所述排渣口与所述环形空间相通。

10.一种煤加氢气化方法，其特征在于，所述煤加氢气化方法应用于权 利要求1～9任一项所述的气化炉，所述煤加氢气化方法包括：

将煤粉和氢气通入所述气化炉的反应内筒中，所述煤粉和所述氢气在所 述反应内筒中发生煤加氢气化反应，生成粗煤气和半焦；

将气化剂通入所述反应内筒和所述气化炉的炉体之间的环形空间内，同 时控制所述气化剂的气速，使所述半焦落入所述环形空间内，与所述气化剂 发生再次气化反应，生成粗煤气。