[发明专利]一种内嵌式触摸屏、其制作方法及显示装置

权利要求书

1.一种内嵌式触摸屏，具有呈矩阵排列的多个电致发光子像素区域，各所述电致发光子像素区域包括：依次设置在衬底基板上的阳极和发光层，其特征在于，还包括：

设置在所述发光层之上的呈矩阵排列的相互绝缘的多个触控电极，各所述触控电极之间的间隙位于所述电致发光子像素区域的间隙处；

各所述触控电极覆盖至少一个所述电致发光子像素区域且复用作为被覆盖的所述电致发光子像素区域的阴极。

2.如权利要求1所述的内嵌式触摸屏，其特征在于，还包括：设置在所述衬底基板上用于分隔各所述触控电极的第一挡墙；以及用于分隔被同一所述触控电极覆盖的各所述电致发光子像素区域的阳极的第二挡墙。

3.如权利要求2所述的内嵌式触摸屏，其特征在于，设置于各所述触控电极之间间隙处的所述第一挡墙具有双层挡墙结构，在所述双层挡墙结构中间的缝隙处设置有与对应的所述触控电极连接的电极引出线。

4.如权利要求3所述的内嵌式触摸屏，其特征在于，所述电极引出线与所述触控电极的连接处对应的第一挡墙的高度大于或等于所述阳极和发光层的厚度之和，且小于所述阳极、触控电极和发光层的厚度之和；

除了所述电极引出线与所述触控电极的连接处对应的第一挡墙之外的其他第一挡墙的高度大于或等于所述阳极、触控电极和发光层的厚度之和。

5.如权利要求2所述的内嵌式触摸屏，其特征在于，所述第二挡墙还用于分隔被同一所述触控电极覆盖的各所述电致发光子像素区域的发光层。

6.如权利要求5所述的内嵌式触摸屏，其特征在于，所述第二挡墙的高度大于或等于所述阳极和发光层的厚度之和，且小于所述阳极、触控电极和发光层的厚度之和。

7.如权利要求2所述的内嵌式触摸屏，其特征在于，所述触控电极的图形中具有镂空区域；所述第二挡墙还用于形成各所述触控电极的图形中的镂空 区域。

8.如权利要求7所述的内嵌式触摸屏，其特征在于，在形成所述镂空区域处所述第二挡墙的高度大于或等于所述阳极、触控电极和发光层的厚度之和；

除了形成所述镂空区域处之外的所述第二挡墙的高度大于或等于所述阳极的厚度，且小于所述阳极、触控电极和发光层的厚度之和。

9.如权利要求1-8任一项所述的内嵌式触摸屏，其特征在于，各所述电致发光子像素区域还包括：设置于所述衬底基板与所述阳极之间的像素控制电路。

10.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-9任一项所述的内嵌式触摸屏。

11.一种如权利要求1-9任一项所述的内嵌式触摸屏的制作方法，其特征在于，包括：

在衬底基板上的各电致发光子像素区域内依次形成阳极和发光层；

在各所述电致发光子像素区域的发光层上，采用喷墨打印方式形成相互绝缘的复用作为阴极的触控电极。

12.如权利要求11所述的制作方法，其特征在于，在衬底基板上的各电致发光子像素区域内形成阴极之前，还包括：

通过构图工艺和刻蚀工艺，在所述衬底基板上同时形成用于分隔各所述触控电极的第一挡墙，以及用于分隔属于所述触控电极的各所述电致发光子像素区域的阳极的第二挡墙。

13.如权利要求12所述的制作方法，其特征在于，通过刻蚀工艺使形成的第二挡墙在将要形成的所述触控电极的镂空区域的高度大于其他区域的高度；

根据需要形成的所述触控电极的镂空区域以及第二挡墙在各区域的高度，控制喷墨打印设备中的喷头在各所述第一挡墙围城的区域内进行设定计量液 体的喷涂，之后进行烘干处理形成具有镂空区域的触控电极的图形。

14.如权利要求12所述的制作方法，其特征在于，形成的所述第一挡墙在与将要形成的触控电极之间的间隙对应位置具有双层挡墙结构；

在形成所述触控电极的同时，在所述第一挡墙具有的双层挡墙结构中间的缝隙处形成与对应的触控电极连接的电极引出线。