[发明专利]一种实现电感耦合等离子体离子源工作在惰性气体环境的方法及装置

权利要求书

1.一种实现电感耦合等离子体离子源工作在惰性气体环境的装置，其特征在于，包括：

安装在所述离子源与采样锥之间的屏蔽罩；以及

设于所述离子源上并与所述屏蔽罩的内部连通的开口；

其中，所述屏蔽罩与所述采样锥之间设有一定间隙，惰性气体通过所述开口流入所述屏蔽罩的内部并经所述间隙流出到所述屏蔽罩之外。

2.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述惰性气体的气压被调整至使所述屏蔽罩的内部的气压大于标准大气压，以实现动态的气体密封。

3.如权利要求1或2所述的装置，其特征在于，所述惰性气体通过所述离子源的腔体内的气路送入所述开口，并经所述开口进入所述屏蔽罩的内部。

4.如权利要求3所述的装置，其特征在于，所述气路是设置在所述离子源的腔体内的圆筒形管道，所述惰性气体流入所述圆筒形管道内的气体孔隙并通过所述开口进入所述屏蔽罩的内部。

5.如权利要求4所述的装置，其特征在于，所述开口是在所述离子源的腔体上开设的圆形出气口，所述圆形出气口位于所述屏蔽罩内。

6.如权利要求1或2所述的装置，其特征在于，所述离子源的腔体上开有圆环形的缺口，所述缺口用于放置圆筒形的屏蔽罩。

7.如权利要求1或2所述的装置，其特征在于，所述屏蔽罩完全包裹所述离子源的火焰，所述屏蔽罩由铜材料制成，所述惰性气体包括氦气。

8.如权利要求1或2所述的装置，其特征在于，所述屏蔽罩与所述采样锥之间的间隙被调整至1毫米到2毫米。

9.如权利要求1或2所述的装置，其特征在于，所述装置在分析标准锆石MUD的Hf同位素比值时，所获得的数据的¹⁷⁶Yb/¹⁷⁶Lu<40。

10.一种实现电感耦合等离子体离子源工作在惰性气体环境的方法，其特征在于，包括：

在所述离子源与采样锥之间安装屏蔽罩，其中所述屏蔽罩与所述采样锥之间设有一定间隙；

在所述离子源上设置开口，所述开口与所述屏蔽罩的内部连通；

在所述离子源的火焰点着后，将所述屏蔽罩与所述采样锥之间的所述间隙调整为1毫米到2毫米之间的距离；

使得惰性气体通过所述离子源的腔体内的气路送入所述开口，并经所述开口进入所述屏蔽罩的内部，以实现所述离子源的火焰工作在惰性气体环境中；以及

将所述惰性气体的气压调整至使所述屏蔽罩的内部的气压大于标准大气压，以使得所述屏蔽罩的内部的气体经所述间隙流出到所述屏蔽罩之外，从而实现动态的气体密封。