[发明专利]一种光纤光栅阵列在线制备多波长有序切换装置及方法有效

专利信息
申请号: 201510814875.X 申请日: 2015-11-20
公开(公告)号: CN105259610B 公开(公告)日: 2018-11-30
发明(设计)人: 郭会勇;周次明;余海湖;余少华;李小甫 申请(专利权)人: 武汉烽理光电技术有限公司
主分类号: G02B6/02 分类号: G02B6/02
代理公司: 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 代理人: 许美红
地址: 430079 湖北省*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 光纤 光栅 阵列 在线 制备 波长 有序 切换 装置 方法
【说明书】:

发明公开了一种光纤光栅阵列在线制备多波长有序切换装置及方法,其中装置包括一维平移台,一维平移台上设置有用于固定和调节相位掩模板阵列的可移动夹具,激光束相对于平移台位置固定;相位掩模板阵列包括基片和基片上设置的多个形状、大小均相同的相位掩模干涉区,相位掩模板密集等间距的排列在基片中;夹具沿所述一维平移台移动,带动所述相位掩模板,让激光束辐射在不同相位掩模干涉区上,从而实现不同波长的光栅制备。本发明装置结构简单,控制实施容易,掩模板切换速度快,提高了工作效率。

技术领域

本发明涉及光纤光栅制备领域,尤其涉及一种光纤光栅阵列在线制备多波长有序切换装置及方法。

背景技术

随着光纤传感器应用规模不断扩展、传感能力快速增强、传感种类日益丰富,光纤传感技术正朝着高性能、密集化和网络化的方向持续发展,发展新一代大容量密集光纤传感器网络已成为新一轮信息化浪潮的重大课题。

众所周知,光纤传感网络的大容量可归纳如下:一是测量点数多,如大飞机结构的智能检测往往需要多达成千上万点数的传感测量;二是测量密集度高,如单纤中对局部位置的被测量进行密集精确测量。目前有些光纤传感网络能实现上千点数的传感,但不能实现密集测量;有些光纤传感网能满足密集测量要求,但测量点数和距离有限。因此,研究开发同时具有多点数和密集性的大容量光纤传感网络具有重要应用前景。

光纤光栅(Fiber Bragg Grating,FBG)为光纤传感技术开辟了一个全新领域。利用波长调制解调可以实现密集测量,但在光纤光栅波分复用解调(WDM)传感系统中,光栅传感器复用数量受光源带宽、光栅带宽以及相邻光栅波长间隔影响,复用数量有限,远远满足不了大容量组网要求。有人提出了全同光栅和编码光栅时分复用解调(TDM)技术来提高了光栅复用容量,但仍然没有解决焊点多、损耗大和抗机械性能差等问题,从而限制了大容量网络发展。单一的组网技术已无法满足大容量密集要求,因此混合复用技术是大容量光纤传感网络的必然趋势。WDM/TDM混合复用网络结合WDM和TDM两种方法优点,是在时间域和波长域二维空间应用的混合网络。光源经调制器发出的光脉冲信号进入FBG阵列,各FBG反射的波长信号由光电探测器在时序上分开或各光栅反射的时域信号由探测器在波长上分开。这种技术不仅能够复用大量的FBG传感器,同时在时分基础上进行光栅位置分区,并通过波长识别在位置分区内实现FBG传感器密集分布。

WDM/TDM混合复用光纤光栅传感网络之所以还没有得到很好应用,关键难点之一是复合组网的光栅阵列精准制作,光栅阵列的连续动态制备一般是采用光纤拉丝塔在线写入方法制作光栅,德国光子技术研究所(Institute of Photonic Technology)从2003年致力于拉丝光栅制作,使用Talbot干涉仪实施多波长光栅阵列的制备,利用双反射镜将相位掩模板的±1级衍射光反射相交形成干涉,实现移动光纤上的光栅刻写;由于光束分路干涉法对两束相干光的相交角度非常敏感,实际中很难用反射镜角度调节精确控制FBG的中心波长,从报道技术指标看,单一波长光栅阵列的Bragg波长一致性较差,波长覆盖宽度高达0.4nm;对于光栅阵列的多波长解调而言,无疑会减少各光栅的工作带宽和有效工作波长数。

发明内容

本发明要解决的技术问题在于针对现有技术中实施多波长光栅阵列存在波长精度控制差的缺陷,提供一种基于多波长相位掩模板阵列一维平移的光纤光栅阵列在线制备多波长有序切换装置及方法。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:

本发明提供一种光纤光栅阵列在线制备多波长有序切换装置,包括一维平移台和相位掩模板阵列,所述一维平移台上设置有用于固定和调节所述相位掩模板阵列的可移动夹具;

所述相位掩模板阵列包括基片和所述基片上设置的多个形状、大小均相同的相位掩模干涉区,所述相位掩模干涉区密集等间距的排列在所述基片中;

所述夹具沿所述一维平移台移动,并带动所述相位掩模板阵列移动,使固定的激光束辐射到不同的所述相位掩模干涉区上。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉烽理光电技术有限公司,未经武汉烽理光电技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510814875.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top