[发明专利]一种橘霉素分子印迹材料及其制备方法在审
申请号: | 201510820898.1 | 申请日: | 2015-11-23 |
公开(公告)号: | CN105295053A | 公开(公告)日: | 2016-02-03 |
发明(设计)人: | 王俊平;王硕;方国臻;王倩 | 申请(专利权)人: | 天津科技大学 |
主分类号: | C08G77/26 | 分类号: | C08G77/26;C08J9/26;B01J20/26 |
代理公司: | 北京金智普华知识产权代理有限公司 11401 | 代理人: | 李明卓 |
地址: | 300457 天*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 霉素 分子 印迹 材料 及其 制备 方法 | ||
技术领域
本发明属于高分子材料技术领域,尤其是涉及一种橘霉素的分子印迹材料及其制备方法。
背景技术
橘霉素含有3个甲基,1个羧基,溶于热酒精、甲醇、乙酸乙酯、苯、丙酮、氯仿,微溶于乙醇,难溶于水,但是溶于稀氢氧化钠、碳酸钠和醋酸钠溶液中。橘霉素可以形成螯合物,但是在酸性或者碱性环境中均可以热解。在无水乙醇或者苯-环己烷中呈现柠檬黄针状结晶,其熔点为178℃-179℃。作为一种真菌毒素,橘霉素具有抗生素、抗菌活性、抗真菌及抗原虫多种特性。橘霉素除了很强的肾毒性作用之外,研究发现橘霉素能够引起小鼠大脑中多巴胺的减少,肾上腺素和去甲肾上腺素的增加,抑制中枢神经系统,还具有致癌、致突变、致畸作用。从毒性上来看,橘霉素与黄曲霉毒素可以相提并论。
目前对于橘霉素,我国还没有统一的限量标准,只是对红曲色素产品中规定限量为50μg/kg,但对其他农产品如玉米、大米等仍没有相关的国标方法及限量标准。在发达国家中,日本是唯一允许使用食品色素和红曲产品的国家,其规定色价为50单位(E10%,1cm)为基准(相当于中国红曲的五个色价单位),所含橘霉素的限量为0.2μg/g以下。欧美国家中对食品及饲料中的橘霉素要求更为严格,一般规定采用HPLC法检测时,要求被测物中不得检出橘霉素。为了减少橘霉素对人体的危害,世界各国应该建立起一套统一的限量标准。随着人们对食品安全关注度的快速上升,毒素的快速检测已成为国内外研究的发展趋势。但是薄膜层析法、液相色谱法、金标试纸法和免疫亲和柱法具有检测周期长,程序复杂所需试剂繁多,检测费用过高等缺点,已远远不能满足现代检测要求。随着分子印迹技术的发展和真菌毒素检测要求的不断提高,分子印迹技术在真菌毒素检测中的应用越来越广泛。将分子印迹聚合物填充于固相萃取小柱中,可用于样品的分离、纯化和浓缩,与抗体相比,分子印迹聚合物制备步骤简单、稳定性好、使用寿命长。
发明内容
有鉴于此,本发明创造旨在发明一种对橘霉素具有高选择性的分子印迹材料。
为达到上述目的,本发明创造的技术方案是这样实现的:
采用功能单体负载型离子液体作为载体,合成了一种橘霉素分子印迹材料。本发明利用功能单体负载型离子液体为载体,表面溶胶-凝胶方法合成出一种用于选择性富集痕量橘霉素的吸附材料。该材料可用作固相萃取材料,可克服环境样品体系复杂的预处理过程,为样品的富集和分离提供很大的方便,与免疫亲和柱相比,成本也低。在食品领域的痕量分析中起重要作用,具有可适用性。
本发明的分子印迹材料对橘霉素有很强的识别功能。
本发明还公开了这种分子印迹材料的制备方法:
一种橘霉素分子印迹材料的制备方法,包括如下步骤:
(1)将橘霉素的结构类似物1,4-萘二甲酸(KCB)作为模板分子加入到DMF溶液中,搅拌使其充分溶解,加入功能单体负载型离子液体,搅拌30min,再加入四乙氧基硅烷和催化剂,40℃水浴孵化24h;所述催化剂是氨水;
(2)抽滤,先用DMF淋洗,再用甲醇淋洗为反应物,50℃真空干燥老化8h;将上述聚合物置于索氏萃取器中,使用体积比为8-10:1甲醇和冰乙酸的混合液作为萃取溶剂,反复萃取48h,再用甲醇萃取12h,直至萃取液中无KCB检出为止。;50℃真空干燥,得到对橘霉素具有高选择性的分子印迹材料(MIP)。
进一步,步骤(1)中KCB与负载型离子液体的质量比为0.5-1:1;四乙氧基硅烷与催化剂的体积比为5-6:1。
进一步,步骤(2)中甲醇和冰乙酸体积比为8-10:1索提48h后,用甲醇索提12h,直至萃取液中无KCB检出为止。
进一步,步骤(1)中KCB与负载型离子液体的质量比为0.97:1;四乙氧基硅烷与催化剂的体积比为5.01:1。
进一步,步骤(2)中甲醇和冰乙酸体积比为9:1用此溶液对聚合物索氏提取48h后,再用甲醇对聚合物索氏提取12h,直至萃取液中无KCB检出为止。以功能单体负载型离子液体为支持体,合成对橘霉素具有高选择性的分子印迹材料;所使用的功能单体负载型离子液体是核心为咪唑环的一类物质,的结构式为:
X-=Br-、NTf2-、BF4-、PF6-
按照上述方法,但不加模板分子KCB,制备本发明对应的非印迹聚合物(NIP)。
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