[发明专利]用于结合超颖表面元件的眼科装置的方法

权利要求书

1.一种用于形成眼科装置插件的方法，包括：在基底上沉积纳米级金属特征，其中所述纳米级金属特征具有小于或大约等于10,000nm²的表面积；使具有纳米级金属特征的所述基底形成为三维形式；以及将所述三维形成的基底附接在插件内。

2.一种用于形成眼科装置的方法，所述方法利用根据权利要求1所述的方法并且还包括：将所述插件放置在模具内；用所述模具中的反应性混合物围绕所述插件；以及使所述反应性混合物聚合。

3.根据权利要求1所述的方法，还包括：在包括建模软件的计算机化系统上，设计待放置在所述基底上的纳米级金属特征的形状和尺寸。

4.根据权利要求3所述的方法，还包括：将所述插件放置在模具内；用所述模具中的反应性混合物围绕所述插件；以及使所述反应性混合物聚合以形成眼科装置。

5.根据权利要求4所述的方法，还包括：测量所述眼科装置的光学特性。

6.根据权利要求5所述的方法，还包括：利用由测量获得的所述结果来调整所述设计过程。

7.根据权利要求6所述的方法，其中输入到所述建模系统中的参数来自对患者执行的眼科测量。

8.根据权利要求1所述的方法，其中：所述金属特征以周期性模式布置；并且所述周期性模式的周期率具有小于或大约等于700nm的尺度。

9.一种用于形成眼科插件装置的方法，包括：在三维形成的基底上沉积纳米级金属特征，其中所述纳米级金属特征具有小于或大约等于10,000nm2的表面积；将所述三维形成的基底附接在插件内。

10.一种用于形成眼科插件装置的方法，包括：在基底上沉积纳米级特征，其中所述特征的一部分包括导电电极；在包括导电电极的所述特征的至少所述部分上沉积电介质涂层；处理所述电介质涂层以建立第一流体的偏好；将具有纳米级特征的所述基底形成为三维形式；以及将所述三维形成的基底附接在插件内。