[发明专利]一种氰类化合物降解菌及其应用

说明书

技术领域

本发明涉及微生物技术领域，具体涉及一种氰类化合物降解菌及其应用。

背景技术

氰化物是一种剧毒物质，人体摄入0.18g的氰化物就会死亡，氰化钾的致死量为0.12g。含氰废水主要来源于电镀、煤气、焦化、冶金、金属加工、化纤、朔料、农药、化工等行业，这些废水对环境照成极大的污染。基于氰化物的特殊性，许多国家的环保部门制定了严格的水体氰化物排放标准，如美国环保署(USEPA)提议饮用水和生态水体中氰化物的最高质量浓度分别为0.05mg/L和0.2mg/L。我国环境保护部和国家质量监督检验检疫总局于2012年6月27日颁布的《炼焦化学工业污染物排放标准》规定独立焦化企业废水总排放口或钢铁联合企业焦化分厂废水排放口的氰化物出水排放标准为0.2mg/L，而且监测的氰化物不只是简单的无机氰化物，0.2mg/L的排放标准指的是总氰化物。

鉴于此，克服以上现有技术中的缺陷，提供一种新的氰类化合物降解方法成为本领域亟待解决的技术问题。

发明内容

本发明的目的在于针对现有技术的上述缺陷，提供一种氰类化合物降解菌、以及上述降解菌的应用。

本发明的目的可通过以下的技术措施来实现：

本发明第一方面提供了一种氰类化合物降解菌，与现有技术相比，其不同之处在于，该降解菌为根癌农杆菌(Agrobacteriumsp.)TQH6菌株，以保藏号CCTCCNO:M2015613保藏。

优选地，所述降解菌的16SrRNA基因序列为SEQIDNo.1。

优选地，所述氰类化合物为无机氰CN^-、铁氰化物或乙腈。

本发明第二方面还提供了上述的保藏号为CCTCCNO:M2015613的氰类化合物降解菌的生物学纯培养物。

本发明第三方面还提供了一种氰类化合物的降解方法，使上述的降解菌与氰类化合物接触，降解氰类化合物。

优选地，所述降解菌与氰类化合物的接触在28～35℃的范围内进行。

优选地，所述降解菌与氰类化合物的接触在pH7.0～8.0的范围内进行。

优选地，所述降解菌与氰类化合物的接触在以氰类化合物为唯一氮源的培养基中进行。

优选地，所述降解菌与氰类化合物的接触在含氰焦化废水中进行。

本发明第四方面还提供了上述的降解菌或上述的纯培养物在氰类化合物降解中的用途。

与现有技术相比，本发明的有益效果在于，本发明的氰类化合物降解菌能够高效降解氰类化合物，对氰类化合物的耐受力强，适合应用于含氰焦化废水的生物处理。

附图说明

图1是本发明实施例2中TQH6菌株对氰化钾的降解变化图。

图2是本发明实施例3中TQH6菌株对铁氰化钾的降解变化图。

图3是本发明实施例4中TQH6菌株对乙腈的降解变化图。

具体实施方式

为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，下面结合附图和具体实施例对本发明作进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。

本发明实施例提供了一种氰类化合物降解菌，该降解菌为根癌农杆菌(Agrobacteriumsp.)TQH6菌株，所述菌株的保藏号为CCTCCNO:M2015613，保藏单位：中国典型培养物保藏中心，保藏地址：中国武汉武汉大学，保藏日期：2015年10月19日。

进一步地，所述菌株鉴定特征如下：细胞呈杆状，菌落乳白色、隆起、边缘光滑齐整，菌株的最适生长条件为：pH7.0，温度30℃。

所述氰类化合物为无机氰CN^-、铁氰化物或乙腈。

本发明实施例提供的细菌的纯培养物为上述菌株的纯培养物或培养物浓缩物或发酵液，可以是上述菌株在固体培养基表面形成纯培养物，例如：平板固体培养基或斜面固体培养基上形成的菌落，也可以是上述菌株在液体培养基(发酵培养液)中发酵培养后经过离心分离所得的细菌悬液，还可以是上述菌株在液体培养基(发酵培养液)中生长发酵形成的发酵液。

其中，术语“发酵培养液”是指液体培养基；术语“发酵液”是指菌株在液体培养基中发酵培养一段时间后所形成的液体(包括了培养液)；术语“细菌悬液”是发酵液经过离心处理后收集沉淀(菌株培养物或菌体)，将沉淀溶于水或缓冲液中，经过震荡或吹打使得沉淀状的菌株培养物悬浮起来所形成的均一的悬浊液。