[发明专利]一种透明光学陶瓷的制备方法在审
| 申请号： | 201510831023.1 | 申请日： | 2015-11-25 |
| 公开（公告）号： | CN105294100A | 公开（公告）日： | 2016-02-03 |
| 发明（设计）人： | 冉德焕 | 申请（专利权）人： | 济南昊泽环保科技有限公司 |
| 主分类号： | C04B35/48 | 分类号： | C04B35/48;C04B35/626 |
| 代理公司： | 济南舜源专利事务所有限公司 37205 | 代理人： | 徐槐 |
| 地址： | 250103 山东省济南市高新*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 透明 光学 陶瓷 制备 方法 | ||
1.一种透明光学陶瓷制备方法，包括粉体制备、成型和烧结步骤，其特征在于：其粉体制备步骤如下：取5-10ml氨水、200-250ml浓度为0.5-1mol/L的碳酸氢铵溶液均匀于500ml梨形漏斗中，滴定到盛有10-20ml浓度为0.5-1mol/L的硝酸钇溶液和70-80ml浓度为1-2mol/L的硝酸锆溶液的烧杯中，同时剧烈搅拌、滴定速度大约3-5ml/min，滴定重点的pH值控制为8-9之间，滴定结束后继续搅拌20-30min，将沉淀前驱体室温陈化1-2d，陈化完毕后用去离子水洗涤2-4次，真空泵抽滤，将洗涤后的沉淀前驱体置于70-80℃的烘箱中干燥10-20h；然后于煅烧，获得的粉体粒径为20-40nm，并且粒径分布窄、基本无团聚、颗粒近乎球型。
2.如权利要求1的一种透明光学陶瓷制备方法，其特征在于：所述的煅烧在800-1300℃下煅烧1-5h。
3.如权利要求1的一种透明光学陶瓷制备方法，其特征在于：其烧结步骤如下：粉体成型采用钢模双向压制，干压、静压成型。
4.如权利要求3的一种透明光学陶瓷制备方法，其特征在于：所述的干压、静压成型为先在10-50Mpa条件下干压成型，后于200-300Mpa等静压成型。
5.如权利要求1的任意一种透明光学陶瓷制备方法，其特征在于：烧结步骤如下：成型后的坯料于流动的氢气气氛中无压烧结，保温时间3-9h，即可获得本发明透明光学陶瓷。
6.如权利要求5一种的透明光学陶瓷制备方法，其特征在于：所述的在氢气气氛中无压烧结烧结温度为1800-2000℃。
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