[发明专利]四缝隙交指耦合调谐型微带天线在审

专利信息
申请号: 201510833474.9 申请日: 2015-11-26
公开(公告)号: CN105375107A 公开(公告)日: 2016-03-02
发明(设计)人: 周建华;杨林鹏;游佰强;李朋 申请(专利权)人: 厦门大学
主分类号: H01Q1/38 分类号: H01Q1/38;H01Q1/48
代理公司: 厦门南强之路专利事务所(普通合伙) 35200 代理人: 马应森
地址: 361005 *** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 缝隙 耦合 调谐 微带 天线
【权利要求书】:

1.四缝隙交指耦合调谐型微带天线,其特征在于设有接地金属板、介质基板、同轴线和 辐射金属层;

所述辐射金属层上刻蚀有交指耦合型缝隙左手结构,辐射金属层的几何中心和介质基板 相互重合,介质基板的背面接地,在接地金属板上刻蚀有4×4的正方形孔,形成EBG结构, 正方形孔按照等间距分布在介质基板的几何中心位置,所述接地金属板的几何中心位置向下 设有一圆孔,圆孔用于提供第三极化方向的馈电端口;辐射缝隙是刻蚀的左右一对交指耦合 型缝隙左手结构,左右一对交指耦合型缝隙左手结构结构相同,左右一对交指耦合型缝隙左 手结构上均设有2臂,交错等间距耦合,辐射金属层呈反镜像对称。

2.如权利要求1所述四缝隙交指耦合调谐型微带天线,其特征在于所述介质基板的相对 介电常数为2~6,长度为60~80mm,宽度为40~50mm,厚度为1.2~2.5mm。

3.如权利要求2所述四缝隙交指耦合调谐型微带天线,其特征在于所述介质基板的相对 介电常数为4.4,长度为69.80±0.01mm,宽度为44.03±0.01mm,厚度为1.60±0.01mm。

4.如权利要求1所述四缝隙交指耦合调谐型微带天线,其特征在于所述接地金属板上刻 蚀的EBG结构,其每个正方形孔的边长为5.0~6.5mm,每个正方形孔的间距均相同,孔之间 的间距为3.5~4.5mm。

5.如权利要求4所述四缝隙交指耦合调谐型微带天线,其特征在于所述接地金属板上刻 蚀的EBG结构,其每个正方形孔的边长为6.00±0.01mm,每个正方形孔的间距均相同,孔之 间的间距为4±0.01mm。

6.如权利要求1所述四缝隙交指耦合调谐型微带天线,其特征在于所述接地金属板上的 圆孔作为提供第三极化方向的馈电端口,圆孔半径为0.59±0.01mm,圆孔位于介质基板几何 中心位置向下2.50±0.01mm处。

7.如权利要求1所述四缝隙交指耦合调谐型微带天线,其特征在于所述辐射金属层为矩 形结构,其长为25~37mm,宽为18~28mm。

8.如权利要求7所述四缝隙交指耦合调谐型微带天线,其特征在于所述辐射金属层为矩 形结构,其长为34.90±0.01mm,宽为23.35±0.01mm。

9.如权利要求1所述四缝隙交指耦合调谐型微带天线,其特征在于所述左右一对交指耦 合型缝隙左手结构的缝隙宽度处处相等,宽度为1.00±0.01mm,交指耦合型缝隙左手结构的 长为12.00±0.01mm,左右一对交指耦合型缝隙左手结构的间距为12.00±0.01mm,臂长为 6.88±0.01mm,两臂之间的间距为1.00±0.01mm,臂距离边界位置为4.5±0.01mm,交指耦 合型缝隙左手结构距离辐射金属层的下边距离为7.58±0.01mm。

10.如权利要求1所述四缝隙交指耦合调谐型微带天线,其特征在于在辐射金属层上刻 蚀有呈反镜像对称的平行四缝隙交指结构,所述结构两侧平行的两对缝隙构成四辐射缝隙, 两对辐射缝各向内伸出两条耦合缝,形成交指耦合型缝隙左手结构。

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