[发明专利]液晶显示装置及其液晶显示面板在审
申请号: | 201510836023.0 | 申请日: | 2015-11-25 |
公开(公告)号: | CN105278154A | 公开(公告)日: | 2016-01-27 |
发明(设计)人: | 谢畅 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G02F1/1335 | 分类号: | G02F1/1335 |
代理公司: | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人: | 梁恺峥 |
地址: | 430070 湖北省武汉市*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 液晶 显示装置 及其 液晶显示 面板 | ||
技术领域
本发明涉及液晶显示技术领域,特别是涉及一种半透半反的液晶显示面板以及具有该液晶显示面板的液晶显示装置。
背景技术
基于液晶分子自身不发光,液晶显示面板需要光源以显示图像,且根据光源类型分为透射式、反射式和透反式。其中,透射式液晶显示面板采用背光源,像素电极为透明电极以利于光透射液晶层以显示图像;反射式液晶显示面板采用前光源或外界光源,反射层反射光并使光透射液晶层以显示图像;透反式液晶显示面板可视为透射式和反射式的结合,可同时采用背光源、前光源或外界光源显示图像。
透反式液晶显示面板兼具透射式和反射式液晶显示面板的优点,既可以在暗的环境下显示明亮的图像以便于室内使用,也可以在室外使用。为了使观看者能在各个视角都能观看到均匀的反射效果,现有的透反式液晶显示面板的反射层需设计采用漫反射的反射方式,因此反射层的反射面具有凹凸结构以实现漫反射。该反射层的制造方法一般是:首先制作一层树脂层基底,由于反射层只需设置于反射区而无需设置于透射区,因此该工序需要增加一道光罩(Mask)制程;然后进行曝光、显影、刻蚀等制程以在树脂层基底上形成凹凸结构,该工序也需要增加一道光罩制程;最后在凹凸结构上形成反射层即可。
可见,现有技术需要至少两道光罩制程才能制得反射层,导致制造工艺较多且制造成本较高,另外,制造凹凸结构时需确保较高的尺寸精度才能保证漫反射的效果,而极易出现的误差会影响反射效果。
发明内容
有鉴于此,本发明实施例所要解决的技术问题是提供一种液晶显示装置及其液晶显示面板,采用较少的光罩制程实现透反式的显示效果,简化制造工艺、降低制造成本的同时确保反射效果。
本发明实施例提供的液晶显示面板,包括相对间隔设置的阵列基板和彩膜基板及夹持于两者之间的液晶层,阵列基板包括交错设置的光反射区和光透射区,液晶显示面板还包括:第一偏光片,位于阵列基板的一侧,且与光反射区和光透射区对应设置,第一偏光片包括偏光片基底和散射层;反射层,位于第一偏光片背向阵列基板的一侧,且与光反射区对应设置,反射层邻近第一偏光片的反射面为平面;其中,反射面用于对入射的光进行镜面反射,包括从液晶显示面板外射向彩膜基板并入射至反射层的光,散射层用于对反射面反射的光进行漫反射。
其中,反射层包括直接形成于第一偏光片上的不透光的金属层。
其中,反射层包括透明基底和光反射片,光反射片形成于透明基底上,透明基底固定于第一偏光片上。
其中,光反射片包括不透光的金属层。
其中,反射层由涂覆、溅射、蒸镀及胶黏贴中的任意组合方式制得。
其中,阵列基板邻近液晶层的一侧设置有像素电极,彩膜基板邻近液晶层的一侧设置有公共电极,所述公共电极和所述像素电极均与光反射区和光透射区对应设置。
其中,阵列基板邻近液晶层的一侧设置有像素电极和公共电极,所述公共电极和所述像素电极均与光反射区和光透射区对应设置。
其中,液晶显示面板还包括设置于彩膜基板一侧的第二偏光片,所述第二偏光片和第一偏光片具有相同的结构。
本发明实施例提供的液晶显示装置,包括上述液晶显示面板。
其中,液晶显示装置还包括背光模组,所述背光模组发出的背光射向第一偏光片并穿射液晶层,而后入射至第二偏光片。
区别于现有技术,本发明实施例的液晶显示装置及其液晶显示面板,设计位于阵列基板一侧的偏光片具有散射层且在光反射区增加反射层,通过反射层对入射的光进行镜面反射、散射层对反射层反射的光进行漫反射,以此实现漫反射效果,制造平面结构的反射层和散射层时无需采用制造凹凸结构的光罩,从而能够采用较少的光罩制程实现透反式的显示效果,简化制造工艺、降低制造成本;同时,无需考虑确保漫反射效果的凹凸结构的尺寸精度,从而确保反射效果。
附图说明
图1是本发明的液晶显示面板一实施例的结构剖视图;
图2是图1所示的第一偏光片的结构剖视图;
图3是本发明的液晶显示面板另一实施例的结构剖视图;
图4是本发明的液晶显示装置一实施例的结构剖视图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明所提供的示例性的实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。
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