[发明专利]一种水位检测系统在审

专利信息
申请号: 201510836577.0 申请日: 2015-11-26
公开(公告)号: CN106802176A 公开(公告)日: 2017-06-06
发明(设计)人: 蔡浩原;方东明;黄辉;曹天扬;刘昶 申请(专利权)人: 中国科学院电子学研究所
主分类号: G01F23/14 分类号: G01F23/14
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司11021 代理人: 宋焰琴
地址: 100190 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 水位 检测 系统
【权利要求书】:

1.一种水位检测系统,其包括:

待测水位容器,用于存储一定体积的液体;

导管,其一端与密闭气室连通,另一端与所述待测水位容器连通;

密闭气室,其进气孔与所述导管相连,该密闭气室的顶部与所述待测水位容器的顶部平齐;当待测水位容器中的水位发生改变时,密闭气室中的气压也会发生改变,通过测量密闭气室中气压的变化,能够推算出所述待测水位容器中液体的高度;

防水透气隔膜,位于导管与密闭气室的接口处,能够允许气体分子通过,阻止水分子透过,以保证密闭气室内的气压与导管内气压相等,但又起到防水的作用;

压力检测模块,置于密闭气室,用于测量所述密闭气室内的气压。

2.如权利要求1所述的系统,其中,所述导管的材质采用柔软可弯折材料。

3.如权利要求1所述的系统,其中,所述防水透气隔膜为高分子薄膜。

4.如权利要求1所述的系统,其中,所述压力检测模块为压差传感器。

5.如权利要求4所述的系统,其中,所述压差传感器为压力应变膜。

6.如权利要求5所述的系统,其中,所述压力应变膜为金属应变片或者利用MEMS工艺加工的硅压阻式压力应变膜。

7.如权利要求4或5所述的系统,其中,当密闭腔室的内部压力P1与外部大气压力P0不相等时,引起所述压力应变膜膜片的形变,通过测量压敏电阻阻值变化,计算得到二者的压力差值;然后根据所述压力差值计算得到待测水位容器中的水位高度。

8.如权利要求1所述的系统,其中,所述压力检测模块包括第一压力传感器和第二压力传感器,所述第一压力传感器置于所述密闭气室内的顶部,所述第二压力传感器位于所述密闭气室外部,与所述第一压力传感器相对设置。

9.如权利要求8所述的系统,其中,所述第一压力传感器用于测量密闭气室内的第一气压,所述第二压力传感器用于测量所述密闭气室外部的第二气压,通过计算第一气压和第二气压之间的差值计算得到待测水位容器中的水位高度。

10.如权利要求1所述的系统,其中,所述压力检测模块包括压力传感器,用于检测待测水位容器注水前所述密闭气室内的第一气压,并检测待测水位容器中注水后所述密闭气室内的第二气压;利用所述第一气压和第二气压之间的差值计算得到待测水位容器中的水位高度。

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