[发明专利]表面保护薄膜、表面保护薄膜的制造方法及光学构件有效
申请号: | 201510836668.4 | 申请日: | 2015-11-26 |
公开(公告)号: | CN105647410B | 公开(公告)日: | 2020-10-16 |
发明(设计)人: | 渡部奈津子;片冈贤一;天野立巳 | 申请(专利权)人: | 日东电工株式会社 |
主分类号: | C09J7/30 | 分类号: | C09J7/30;C09J7/25;C09J133/00;C09J11/08;C08J7/04;C09D5/24;C09D175/04;C09D179/02;C09D7/63;C08L67/02 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 王海川;穆德骏 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 表面 保护 薄膜 制造 方法 光学 构件 | ||
本发明涉及表面保护薄膜、表面保护薄膜的制造方法及光学构件。本发明提供触控面板用表面保护薄膜、所述表面保护薄膜的制造方法以及光学构件,所述触控面板用表面保护薄膜的防静电性、剥离静电电压的经时稳定性优良,能够进行触控面板的操作确认,剥离表面保护薄膜后的被粘物表面对层间填充剂的润湿性也优良。本发明的触控面板用表面保护薄膜具备具有第一面和第二面的基材、设置在所述基材的所述第一面上的防静电层和在所述基材的所述第二面上由粘合剂组合物形成的粘合剂层,其特征在于,所述防静电层由含有作为导电性聚合物成分的聚苯胺磺酸、作为粘结剂的聚酯树脂以及作为交联剂的异氰酸酯类交联剂的防静电剂组合物形成,所述粘合剂组合物含有(甲基)丙烯酸类聚合物和聚醚化合物,相对于所述(甲基)丙烯酸类聚合物100质量份,含有0.03~14质量份所述聚醚化合物。
技术领域
本发明涉及触控面板用的表面保护薄膜、所述表面保护薄膜的制造方法以及搭载在触控面板上的光学构件。
背景技术
表面保护薄膜一般具有在薄膜状的基材(支撑体)上设置有粘合剂层的构成。所述保护薄膜为了下述目的而使用:经由所述粘合剂层与被粘物(被保护物)贴合,由此保护被粘物免于加工、运送时等的划痕或污渍。
例如,液晶显示器的触控面板通过经由粘合剂层将偏振板或波长板等光学构件与液晶单元贴合而形成。所述液晶显示面板的制造中,与液晶单元贴合的偏振板先制造为卷筒形态,然后从该卷筒绕出,并根据液晶单元的形状切割为所需的尺寸后使用。在此,为了防止偏振板在中间工序中与运送辊等摩擦而划伤,采取在偏振板的单面或两面(典型地是单面)贴合表面保护薄膜的对策。
一般而言,表面保护薄膜或光学构件由塑料材料构成,因此电绝缘性高,由于摩擦或剥离而产生静电。因此,从偏振板等光学构件上剥离表面保护薄膜时容易产生静电,在残留有该静电的状态下对液晶施加电压时,有可能液晶分子的取向损失或者面板产生缺损。另外,静电的存在也可能导致吸引尘埃或者降低作业性。鉴于所述事项,对表面保护薄膜进行防静电处理,例如,通过形成防静电层或实施防静电涂敷作为表面保护薄膜的表面层(罩面涂层、背面层),由此赋予防静电功能(参见专利文献1和2)。
另外,近年来,作为用于赋予表面保护薄膜的表面层防静电功能的导电性聚合物,使用PEDOT(聚(3,4-亚乙二氧基噻吩))/PSS(聚苯乙烯磺酸盐)(聚噻吩型)类水分散型导电性聚合物。但是,所述水分散型在以溶液状态保存时产生聚集体,不能形成均匀的防静电层,产生作业性差的问题。另外,使用所述导电性聚合物形成防静电层时,随着时间经过,有可能PSS(相当于掺杂剂)从PEDOT脱离,产生表面电阻值或剥离静电电压的上升等,另外,有可能产生与氧化劣化或光劣化相伴的表面电阻值的上升(劣化)等问题。
另一方面,在静电电容式触控面板中,在偏振板相比于触摸感应器更靠近可视侧设置时,在偏振板上粘贴有保护薄膜的状态下进行触控面板的操作确认时,表面保护薄膜的表面层的表面电阻值过低时,触控面板不反应,不能进行检查,表面电阻值过高时,产生静电,导致产生问题的担心。
另外,在表面保护薄膜不再需要的阶段,从光学构件上剥离后,有时在粘贴有表面保护薄膜的被粘物表面设置具有其它功能的层(其它层)。根据剥离表面保护薄膜后的被粘物表面的状态,对其它层的润湿性变差,由于这样的原因等,担心有时不能发挥其它层所期待的功能或者制品不良。具体而言,在偏振板表面设置具有触控面板功能的层等其它层时,将为了保护偏振板(例如,表层为硬涂层的偏振板等)的表面而设置的表面保护薄膜剥离后,在其它层与偏振板表面之间涂布层间填充剂,设置透明的层的情况下,有时偏振板表面对层间填充剂的润湿性不充分。因此,要求开发在剥离表面保护薄膜后的被粘物表面设置其它层时,能够确保润湿性优良的状态的表面保护薄膜。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2004-223923号公报
专利文献2:日本特开2008-255332号公报
发明内容
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