[发明专利]建筑物的三维构件库在审

专利信息
申请号: 201510842775.8 申请日: 2015-11-29
公开(公告)号: CN105421581A 公开(公告)日: 2016-03-23
发明(设计)人: 李鹏;武文波 申请(专利权)人: 辽宁工程技术大学
主分类号: E04B1/00 分类号: E04B1/00;E04F11/02
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 123000 辽宁省阜新市*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要:
搜索关键词: 建筑物 三维 构件
【说明书】:

技术领域

发明属于测绘工程技术领域,特别涉及一种建筑物的三维构件库。

背景技术

在测绘行业中,三维激光扫描测量技术是继GPS之后的又一项测绘新技术,已成为空间数据获取的重要技术手段,随着三维激光扫描测量技术的广泛应用,三维模型重建得到广泛关注。随着地理信息系统技术、计算机技术、虚拟现实技术的快速发展,数字化古建筑、文物保护以及数字城市在我国迅速兴起,提高建筑物三维模型的建立效率成为热门研究课题。建筑物都是由各种建筑构件组成的,并且有的构件(如门和窗)在建筑物设计时都有一定的规格要求,使得一个建筑物中常常包含很多相同的门和窗,因此,为了提高建筑物的测绘效率,建立三维的建筑物构件库成为重要的研究内容。目前,地面三维激光扫描技术侧重于基于点云的三维模型重建的相关问题研究,而对于独立构件的模型建立的研究还很少。

发明内容

本发明的目的在于提供一种三维建筑构件库,以解决上述问题。

为了达到上述目的,本发明的技术方案是这样实现的:

一种建筑物的三维构件库,包括墙壁、柱梁、屋盖(屋面、屋顶)、门窗、台阶、楼梯、地坪、楼板、天花板、建筑装饰,其特征在于:墙壁有外墙、内墙、承重墙、隔墙、窗间墙、山墙、墙墩、女儿墙、围墙、装饰墙;门有单扇门、双扇门、大小不等的门、转动门、弹簧门、单向拉门扇、不同方向拉门扇、双拉门扇、折叠门扇,其中单扇门为950~1000mm宽,双扇1500~1800mm宽,高度为2.1~2.3m;窗有固定窗、平开窗、上悬窗、中悬窗、立转窗、下悬窗、垂直推拉窗、水平推拉窗,窗户一般由窗框、窗扇、贴脸板和窗台板组成,其中窗框一般为60mm×100mm,窗扇单扇一般不超过450mm;楼梯形式有:单、双跑直楼梯、双跑平行楼梯、三跑楼梯、弧形楼梯、螺旋楼梯,楼梯一般由梯段、楼层平台和中间平台三部分组成。楼梯所涉及到的尺寸有:楼梯宽度、楼梯坡度、踏步尺寸、楼梯净空高度等,楼梯宽度是根据用楼的人流量设计的,一般情况下,作为主要交通用楼梯梯段宽按照每股人流宽0.55~0.70m,并不应少于两股人流,楼梯坡度一般为1:2,踏步尺寸与楼梯的坡度有着直接的关系,另外,每个梯段一般不应超过18段。

与现有技术相比,本发明的优点在于:本发明通过构建建筑物的三维构件库,通过构件库直接调用构件实现建筑物的三维建模大大提高了建筑物的建模速度,建筑物常用三维构件库的建立具有重大的实际意义。

附图说明

图1是本发明结构示意图。

具体实施方式

以下将结合附图对本发明各实施例的技术方案进行清楚、完整的描述。

参见图1,统计建筑物所有的构件种类,对于结构规则、形状简单的构件采用电子全站仪获取数据,对于结构复杂的构件种类采用三维激光扫描仪获取点云数据,分别对其建立构件的三维模型,统一管理后形成建筑物的三维构件库。

构件库包括墙壁、柱梁、屋盖(屋面、屋顶)、门窗、台阶、楼梯、地坪、楼板、天花板、建筑装饰,其特征在于:墙壁有外墙、内墙、承重墙、隔墙、窗间墙、山墙、墙墩、女儿墙、围墙、装饰墙;门有单扇门、双扇门、大小不等的门、转动门、弹簧门、单向拉门扇、不同方向拉门扇、双拉门扇、折叠门扇,其中单扇门为950~1000mm宽,双扇1500~1800mm宽,高度为2.1~2.3m;窗有固定窗、平开窗、上悬窗、中悬窗、立转窗、下悬窗、垂直推拉窗、水平推拉窗,窗户一般由窗框、窗扇、贴脸板和窗台板组成,其中窗框一般为60mm×100mm,窗扇单扇一般不超过450mm;楼梯形式有:单、双跑直楼梯、双跑平行楼梯、三跑楼梯、弧形楼梯、螺旋楼梯,楼梯一般由梯段、楼层平台和中间平台三部分组成。楼梯所涉及到的尺寸有:楼梯宽度、楼梯坡度、踏步尺寸、楼梯净空高度等,楼梯宽度是根据用楼的人流量设计的,一般情况下,作为主要交通用楼梯梯段宽按照每股人流宽0.55~0.70m,并不应少于两股人流,楼梯坡度一般为1:2,踏步尺寸与楼梯的坡度有着直接的关系,另外,每个梯段一般不应超过18段。

以上所述,仅是本发明的较佳实施例而已,并非对本发明作任何形式上的限制,任何熟悉本专业的技术人员,在不脱离本发明技术方案范围内,当可利用上述揭示的技术内容作出些许更动或修饰为等同变化的等效实施例,但凡是未脱离本发明技术方案的内容,依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰,均仍属于本发明技术方案的范围内。

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