[发明专利]液体组合物及使用其的蚀刻方法

权利要求书

1.一种液体组合物，其特征在于，其用于对形成在含有铟、镓、锌及 氧的氧化物上的铜或以铜作为主要成分的金属化合物进行蚀刻，所述液体组 合物包含：(A)过氧化氢、(B)不含氟原子的酸、(C)选自由膦酸类、磷 酸酯类、1H-四唑-1-乙酸、1H-四唑-5-乙酸及4-氨基-1,2,4-三唑组成的组中的 1种以上化合物及(D)水，所述(B)不含氟原子的酸不包括所述(C)成 分，并且所述液体组合物的pH值为5以下。

2.根据权利要求1所述的液体组合物，其中，(B)不含氟原子的酸为(B1) 选自由硝酸、硫酸、磷酸及盐酸组成的组中的1种以上化合物。

3.根据权利要求1所述的液体组合物，其中，(B)不含氟原子的酸为(B1) 选自由硝酸、硫酸、磷酸及盐酸组成的组中的1种以上化合物与(B2)选自 由甲磺酸、氨基磺酸、乙酸、乙醇酸、乳酸、丙二酸、马来酸、琥珀酸、苹 果酸、酒石酸及柠檬酸组成的组中的1种以上化合物的组合。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的液体组合物，其中，所述液体组合 物中的(C)选自由膦酸类、磷酸酯类、1H-四唑-1-乙酸、1H-四唑-5-乙酸及 4-氨基-1,2,4-三唑组成的组中的1种以上化合物的含量在0.001质量％～0.1质 量％的范围内。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的液体组合物，其中，所述液体组合 物中的(A)过氧化氢的含量在2质量％～10质量％的范围内。

6.根据权利要求1～5中任一项所述的液体组合物，其中，所述液体组合 物中的(B)不含氟原子的酸的含量在1质量％～10质量％的范围内，所述(B) 不含氟原子的酸不包括所述(C)成分。

7.根据权利要求1～6中任一项所述的液体组合物，其中，(C)膦酸类为 选自由氨基甲基膦酸、正己基膦酸、1-辛基膦酸、氨基三(亚甲基膦酸)、 羟基乙叉-1,1-二膦酸、N,N,N’,N’-乙二胺四(亚甲基膦酸)、1,2-丙二胺四(亚 甲基膦酸)、二亚乙基三胺五(亚甲基膦酸)、双(六亚甲基)三胺五(亚甲 基膦酸)及五亚乙基六胺八(亚甲基膦酸)组成的组中的1种以上化合物。

8.根据权利要求1～7中任一项所述的液体组合物，其中，(C)磷酸酯类 为选自由磷酸单乙酯、磷酸二乙酯及乙二醇磷酸酯组成的组中的1种以上化 合物。

9.根据权利要求1～8中任一项所述的液体组合物，其还包含作为过氧化 氢稳定剂的、选自由苯脲、乙二醇单苯醚、苯基乙二醇、苯酚磺酸、乙酰苯 胺、非那西汀、乙酰氨基苯酚、羟基苯甲酸、对氨基苯甲酸、对氨基苯酚、 3,5-二氨基苯甲酸、对氨基苯磺酸、苯胺、N-甲基苯胺、8-羟基喹啉、N-乙 酰邻甲苯胺、N-乙酰间甲苯胺、二苯胺、苯酚、苯甲醚组成的组中的1种以 上具有苯基的过氧化氢稳定剂。

10.根据权利要求1～9中任一项所述的液体组合物，其用于对形成在含有 铟、镓、锌及氧的氧化物上的铜或以铜作为主要成分的金属化合物、以及形 成在含有铟、镓、锌及氧的氧化物上的钼或以钼作为主要成分的金属化合物 进行蚀刻。

11.一种蚀刻方法，其使权利要求1～10中任一项所述的液体组合物与形 成在含有铟、镓、锌及氧的氧化物上的铜或以铜作为主要成分的金属化合物 接触，对铜或以铜作为主要成分的金属化合物进行蚀刻。

12.根据权利要求11所述的方法，其对以未夹设保护层的方式形成在含 有铟、镓、锌及氧的氧化物上的铜或以铜作为主要成分的金属化合物进行蚀 刻。

13.一种蚀刻方法，其使权利要求1～10中任一项所述的液体组合物与形 成在含有铟、镓、锌及氧的氧化物上的铜或以铜作为主要成分的金属化合物、 以及形成在含有铟、镓、锌及氧的氧化物上的钼或以钼作为主要成分的金属 化合物接触，对铜或以铜作为主要成分的金属化合物、以及钼或以钼作为主 要成分的金属化合物进行蚀刻。

14.根据权利要求13所述的方法，其对以未夹设保护层的方式形成在含 有铟、镓、锌及氧的氧化物上的铜或以铜作为主要成分的金属化合物、以及 以未夹设保护层的方式形成在含有铟、镓、锌及氧的氧化物上的钼或以钼作 为主要成分的金属化合物进行蚀刻。