[发明专利]液体组合物及使用其的蚀刻方法

权利要求书

1.一种液体组合物，其特征在于，其用于对形成在含有铟、镓、锌及氧的氧化物上的铜或以铜作为主要成分的金属化合物进行蚀刻，所述液体组合物包含：(A)过氧化氢、(B)不含氟原子的酸、(C)氟离子供给源、(D)选自由氨基三(亚甲基膦酸)、N,N,N’,N’-乙二胺四(亚甲基膦酸)、二亚乙基三胺五(亚甲基膦酸)、双(六亚甲基)三胺五(亚甲基膦酸)及五亚乙基六胺八(亚甲基膦酸)组成的组中的1种以上化合物、(E)过氧化氢稳定剂、及(F)水，所述(B)不含氟原子的酸不包括(D)成分，并且所述液体组合物的pH值为5以下。

2.根据权利要求1所述的液体组合物，其中，(B)不含氟原子的酸为(B1)选自由硝酸、硫酸、磷酸及盐酸组成的组中的1种以上化合物。

3.根据权利要求1所述的液体组合物，其中，(B)不含氟原子的酸为(B1)选自由硝酸、硫酸、磷酸及盐酸组成的组中的1种以上化合物与(B2)选自甲磺酸、氨基磺酸、乙酸、乙醇酸、乳酸、丙二酸、马来酸、琥珀酸、苹果酸、酒石酸及柠檬酸组成的组中的1种以上化合物的组合。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的液体组合物，其中，(D)选自由氨基三(亚甲基膦酸)、N,N,N’,N’-乙二胺四(亚甲基膦酸)、二亚乙基三胺五(亚甲基膦酸)、双(六亚甲基)三胺五(亚甲基膦酸)及五亚乙基六胺八(亚甲基膦酸)组成的组中的1种以上化合物的含量在0.001质量％～0.1质量％的范围内。

5.根据权利要求1～3中任一项所述的液体组合物，其中，(C)氟离子供给源为选自由氢氟酸、氟化铵及酸式氟化铵组成的组中的1种以上化合物。

6.根据权利要求1～3中任一项所述的液体组合物，其中，(E)过氧化氢稳定剂为选自由苯脲、乙二醇单苯醚、苯基乙二醇、苯酚磺酸、乙酰苯胺、非那西汀、乙酰氨基苯酚、羟基苯甲酸、对氨基苯甲酸、对氨基苯酚、3,5-二氨基苯甲酸、对氨基苯磺酸、苯胺、N-甲基苯胺、8-羟基喹啉、N-乙酰邻甲苯胺、N-乙酰间甲苯胺、二苯胺、苯酚及苯甲醚组成的组中的1种以上具有苯基的过氧化氢稳定剂。

7.根据权利要求6所述的液体组合物，其中，具有苯基的过氧化氢稳定剂为选自由苯脲、乙二醇单苯醚、苯基乙二醇及苯酚磺酸组成的组中的1种以上化合物。

8.根据权利要求1～3中任一项所述的液体组合物，其用于对形成在含有铟、镓、锌及氧的氧化物上的铜或以铜作为主要成分的金属化合物、以及形成在含有铟、镓、锌及氧的氧化物上的选自由钛或以钛作为主要成分的金属化合物、钼或以钼作为主要成分的金属化合物、钼钛合金及以钼和钛作为主要成分的金属化合物组成的组中的1种以上金属化合物进行蚀刻。

9.根据权利要求1所述的液体组合物，其中，所述液体组合物在温度35℃下的含有铟、镓、锌及氧的氧化物，即IGZO的蚀刻速率为小于1nm/分钟。

10.一种蚀刻方法，其使权利要求1～9中任一项所述的液体组合物与形成在含有铟、镓、锌及氧的氧化物上的铜或以铜作为主要成分的金属化合物接触，对铜或以铜作为主要成分的金属化合物进行蚀刻。

11.根据权利要求10所述的方法，其对以未夹设保护层的方式形成在含有铟、镓、锌及氧的氧化物上的铜或以铜作为主要成分的金属化合物进行蚀刻。

12.一种蚀刻方法，其使权利要求1～9中任一项所述的液体组合物与形成在含有铟、镓、锌及氧的氧化物上的铜或以铜作为主要成分的金属化合物、以及形成在含有铟、镓、锌及氧的氧化物上的钛或以钛作为主要成分的金属化合物接触，对铜或以铜作为主要成分的金属化合物、以及钛或以钛作为主要成分的金属化合物进行蚀刻。