[发明专利]X射线发生管、X射线发生装置和射线照相系统

说明书

技术领域

本发明涉及可以应用到医疗设备和工业设备等领域中的非破坏性 X射线成像的X射线发生装置，以及具有X射线发生装置的射线照相 系统。

背景技术

最近，具有微聚焦X射线发生管的X射线检查装置已经开始用于 电子设备的检查。应用到这样的X射线检查装置的微聚焦X射线发生 管被称为具有透射靶的透射型X射线发生管。透射型X射线发生管与 反射型靶相比在如下方面是有优势的，即可以确保宽的辐射角、短的 源-物体间距离(SOD)和大的放大倍数。

日本专利公开号2012-104272公开了透射型微聚焦X射线发生管， 其中导电波纹管置于靶的后面，因而抑制由于后向散射的电子导致的 波纹管的带电并且使电子轨迹稳定化。日本专利公开号2012-104272 还公开了，其中说明的透射型微聚焦X射线发生管由于抑制了带电， 从而改进了焦点的位置精度并且减少了焦点未对准的状态。

日本专利公开号2002-298772公开了透射型微聚焦X射线发生管， 其中电子发射源(在其尖端具有聚焦透镜电极)很接近靶。

日本专利公开号2012-104272和日本专利公开号2002-298772二 者公开的透射型微聚焦X射线发生管具有朝向靶突出的电子发射源以 及管状的阳极构件，所述管状的阳极构件在阴极侧延伸以在管轴方向 上与电子发射源交迭。

发明内容

在日本专利公开号2012-104272和日本专利公开号2002-298772 中公开的透射型微聚焦X射线发生管，特别是比起在X射线发生管的 阳极/阴极管轴方向上的沿面距离而言，具有相对短的绝缘距离，因此 很难实现尺寸的减小和必要的分辨率(X射线管电压的上限)二者， 因而限制了其可销售性。

提供实现耐电压性能和减小尺寸二者的透射型微聚焦X射线发生 管和透射型微聚焦X射线发生装置已经是所期望的。提供能够产出高 清晰度透射X射线图像的射线照相系统也已经是所期望的。

X射线发生管包括：阳极，包括配置为在电子的照射下生成X射 线的靶，以及与所述靶电连接的阳极构件；阴极，包括被配置为沿着 朝向所述靶的方向发射电子束的电子发射源以及与所述电子发射源电 连接的阴极构件；以及绝缘管，在所述阳极构件和所述阴极构件之间 延伸。所述阳极还包括与所述阳极构件电连接的内周阳极层，所述内 周阳极层沿着绝缘管的内周面延伸，并且远离所述阴极构件。

参照附图，根据下面对示例性实施例的说明，本发明的进一步的 特征将变得清晰。

附图说明

图1A到图1C是例示了根据本发明的第一实施例的X射线发生 管的示意性配置图。

图2A和图2B是说明与第一实施例相关的技术意义的示意图。

图3A到图3C是说明与第一实施例相关的其它技术意义的示意 图。

图4是例示了根据本发明的第二实施例的X射线发生装置的配置 图。

图5是例示了根据本发明的第三实施例的射线照相系统的配置 图。

图6是例示了用于示例性实施例的评价系统的配置图。

具体实施方式

下面将参照附图，对根据本发明的X射线发生管和微聚焦X射线 发生装置的实施例做出示例性说明。然而，应注意到的是，实施例中 说明的配置的材料、尺寸、形状、位置关系等等不是旨在限制本发明 的范围，除非具体声明。将参照图1A到图5对X射线发生管102、X 射线发生装置101和射线照相系统200做出说明。

第一实施例：X射线发生管

首先，将参照图1A到图1C对根据本发明的X射线发生管的基 本配置做出说明，图1A到图1C例示了根据第一实施例的透射型X 射线发生管102。X射线发生管102具有电子发射源9和透射靶1。本 发明属于具有透射靶的透射型X射线发生管。因此，在本说明书中， 为了简明的目的，术语“透射靶”和“透射型X射线发生管”此后将 简称为“靶”和“X射线发生管”。

X射线发生管102通过用从电子放出单元6放出的电子束流10 照射靶1来生成X射线，电子发射源9具有所述电子放出单元6。阴 极104至少包括放出电子的电子发射源9以及阴极构件8，该阴极构 件8用作在X射线发生管102的阴极侧限定静电场的电极构件以及组 成外围器111的结构构件。